[출처:HVM IR Book]

1. 에이치브이엠 회사 개요 및 연구개발 조직 구성

(1) 에이치브이엠

① 회사 개요

에이치브이엠은 고청정 진공용해 기술을 기반으로 2003년도에 설립되어 지금까지 20년간 고객 요구에 부응하는 최상의 품질과 서비스를 제공하기 위해 꾸준한 연구개발과 양산 시스템 최적화 및 확대를 추구하는 첨단 금속 전문 제조기업입니다. 에이치브이엠은 최신 선진기술을 활용하여 고순도금속, 스퍼터링 타겟, Ni 계/Ti 계 특수 금속, 그리고 첨단 금속을 제조하고 있습니다. 2003년 창업 이후 진공 유도 용해로 (VIM)를 자체 설계 제작하여 고객 요구에 부응하는 제품을 선보이는 것으로부터 시작하였으며, 최근에는 진공 아크 재용해 (VAR), 플라즈마 아크 용해(PACHM), 전자빔 용해(EBCHM) 등의 최첨단 진공용해 설비를 자체 제작하여 운영하고 있습니다. 

② 주요 제품

전 세계적으로 첨단소재 특수금속의 절반가량인 46.67%가 항공 부분에 사용되고, 20%가 화학제품 부분에, 14%가 자동차 산업, 10%가 전기/전자 부품산업에 각각 사용되고 있습니다.

이에 따라 에이치브이엠은 주요 제품으로 우주항공 구리합금 소재, 항공기 부품용 베타 열처리 타이타늄 합금, Ni 계 초내열합금, 고청정 인바합금, 스퍼터링 타겟 등을 생산하고 있습니다.

우주 합금 구리합금 소재는 Cu-Cr-Zr 합금으로 전기전도도의 손실 없이 나노 크기의 Cr 상을 석출시켜 상대적으로 높은 강도를 갖는 Cu 합금이고, 항공용 타이타늄 합금은 파괴인성 및 피로균열 전파에 대한 저항성을 갖춘 합금, 초내열합금은 Ni-Cr-Fe 기 합금 조성에 Nb, Mo, Al 및 Ti가 첨가된 합금으로써 각 합금원소에 의한 고용 및 시효 경화 효과를 극대화하여, 고온에서의 기계적 특성을 개선한 합금, 고청정 인바합금은 LCD 및 OLED 화면과 같은 평판 디스플레이 제조에 사용되는 정밀 부품인 파인 메탈 마스크(FMM) 생산에 사용되는 합금, 스퍼터링 타겟은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)방법 중 하나인 스퍼터링이라는 박막 증착 기술에 사용되는 재료로, 반도체와 태양전지의 제조에 활용되는 것에 각각 해당합니다.

[출처=에이치브이엠 IR자료]

③ 주요 고객사

우주·항공 분야

우주·항공 시장에서 에이치브이엠은 항우연과의 다년간의 공동연구 개발로 나로호/누리호 발사체에 사용된 특수 Stainless steel 및 Cu 계 첨단 금속을 성공리에 납품하였으며, 향후 두 가지 첨단 금속 이외에도 다양한 Stainless steel 수주를 확보하여 추가 발사체에 활용 예정입니다. 그리고 에이치브이엠은 한화에어로스페이스와 터빈엔진 소재 중 하나인 Alloy 718 공동연구 개발 과제(국책과제)의 협약을 완료하였으며, 이를 통해 국내 우주·항공 산업의 선두 주자인 한화에어로스페이스와의 지속적인 상호 발전 관계를 유지 중입니다.

또한 한국항공우주산업(KAI)와의 공동 연구를 통하여 국내 최초 5인치 이상의 Ti 계 (TI6AI-4V) 첨단소재 개발을 완료하였으며, KAI에 Ti 계 첨단소재 납품을 진행 중에 있습니다. 이뿐만 아니라 항공용 Fe 계 (PH13-8Mo) 첨단 소재 국산화 기술 개발도 제안을 받은 상태입니다. 특히, 최근에는 미국의 스페이스X, 이스라엘의 SCOPE에도 첨단 금속을 공급하기 시작했습니다.

반도체 분야

PVD 스퍼터링 타겟은 2020년 약 3,100백만 달러(4.03조 원)의 시장 규모가 형성되어 2026년 약 6,000백만 달러(7.8조 원)로 성장할 것으로 전망되며, 연평균 성장률(CAGR)은 9.89%로 예상됩니다. 에이치브이엠은 고청정 진공용해 기술을 기반으로 한 국내 유일 스퍼터링 타겟(Ni 계, Cu 계) 제조 기업입니다. 박막증착 원소재 국산화율을 각 증착공정별로 비교하였을 때, ALD 70%, ALD 40%, PVD 2%로 PVD 증착공정에 사용되는 스퍼터링 타겟이 국산화율이 가장 낮아 국산화에 대한 시장 수요가 높습니다. 스퍼터링 타겟으로 사용되는 소재는 현재 Al, Cu, Ti, 이 주를 이루고 있는 반면에 향후에는 Ta(탄탈륨) 스퍼터링 타겟 시장이 높은 비중을 차지할 것으로 기대됩니다. Ta 스퍼터링 타겟은 에이치브이엠의 주요 미래 기술 제품으로, 역시 반도체 산업의 PVD 공정에서 활용됩니다. Ta의 원소재 가격은 약 50만 원/kg (Fe 약 1천 원/kg)으로 원소재의 높은 가격만큼 고부가가치를 지닌 제품입니다.

디스플레이 분야

디스플레이 제조에서 Fine Metal Mask(FMM)은 고해상도 구현을 위한 핵심 부품으로, 유기물 증착 공정에서 정밀한 픽셀 형성을 가능하게 합니다.

FMM은 현재 일본의 Hitachi사와 DNP사가 독점하고 있는 분야로, Hitachi사의 고청정 인바 합금 용해기술을 통해 제조한 인바 합금을 DNP사가 높은 수준의 압연 기술을 통해 수십 ㎛ 두께의 박판으로 제조하고 있습니다. OLED 디스플레이 시장이 성장함에 따라 FMM 시장은 점점 더 커져 가고 있습니다.

또한, 기술이 발전함에 따라 OLED에 요구되는 해상도는 점점 높아져가고 있으며, 이에 따라 FMM의 품질(고청정, 얇은 두께, 평탄도 등)에도 더 높은 성능에 대한 필요가 발생하고 있습니다. 특히 VR 기기와 같은 디스플레이에는 3000 ppi 이상의 초고해상도 디스플레이가 요구되므로 이를 위한 FMM에도 점점 더 높은 수준의 제조 기술력이 요구되고 있습니다.

에이치브이엠은 관련 국책과제를 기반으로 하여 FMM의 연구개발을 진행해 오고 있습니다. 에이치브이엠이 보유하고 있는 고청정 용해 기술은 타기업보다 FMM용 인바합금 소재를 제조하기에 적합한 상황이며, 이러한 기술을 기반으로 현재는 20㎛ 두께의 FMM용 인바합금 박판 시제품을 제조하였습니다.

(2) 첨단금속 시장의 특징

[출처=에이치브이엠 IR자료]

첨단 금속 시대의 도래는 현재 우리가 사는 세상에서 가장 큰 변화 중 하나로 ICT 기술과 융복합 된 새로운 기술의 발전으로 인해 종래에 없던 새로운 성능 및 용도의 첨단 금속 소재가 필요해지고 있습니다.

세계 각국은 자국 산업의 강점 및 환경적 특징에 따라 자국 중심의 첨단 제조업 육성을 추진 중입니다. 미국은 자국 중심의 첨단 산업 육성을 위한 과감한 '규제 완화 제도를 마련하고 있으며 국가 간 적극적인 교류를 통한 시너지 효과 창출을 위해 노력하고 있습니다. 그러나 이러한 기술 육성 산업에 가장 중요한 것은 결국 첨단부품 소재 개발입니다. 이는 다양한 산업 분야에서 사용되는 최첨단 고부가가치인 첨단 금속의 중요성이 계속해서 높아지면서 생겨난 현상으로 첨단금속 소재의 개발과 상용화는 앞으로의 산업혁명에서 선두를 달리는 핵심 기술 중 하나가 될 것입니다. 첨단 금속은 높은 강도와 경도, 내식성, 내열성, 전기 전도도 등의 물리적, 화학적, 전기적 특성을 가지고 있습니다. 한정된 에너지 자원의 효율적 이용, 환경오염 저감에 대한 사회적 요구 증가로 인한 연비 향상, 가혹한 환경에서의 사용 등 다양한 산업적인 요구에 따라 첨단 금속의 중요성은 더욱 커지고 있습니다.

Azoth Analytics 자료에 따르면 세계 첨단소재 특수금속 시장은 2021년 8.87조 원에서 2028년 16.31조 원으로 약 2배가량 증가할 것으로 보고 있습니다. 각 합금별로 구분하면 타이타늄계 합금의 경우 1.8조 원에서 4.3조 원으로 약 2.5배가량 증가하고, 니켈계 합금의 경우 4.4조 원에서 8.8조 원으로 약 2배가량 증가하는 한편, 크롬계 합금의 경우 0.9조 원에서 1.1조 원, 기타 합금의 경우 1.2조 원으로 시장 규모가 확대될 것으로 전망됩니다.

(3) 에이치브이엠 연구개발 조직

① 개요

에이치브이엠은 합금 제조 과정에서 발생하는 다양한 문제를 해결하고, 합금 소재의 성능과 품질 최적화를 목표로 연구개발에 대한 투자와 기술력 강화에 주력하고 있습니다. 진공 용해 기술을 비롯한 다양한 공정 기술(단조, 압연 등)을 적극적으로 적용하여 합금 제조의 효율성과 품질 안정성을 높여 왔습니다. 이를 통해 불순물 제거 및 합금 원소 제어 기술 등을 개발하여 고청정 합금 제조에 성공하였습니다. 또한, 합금 소재의 특성 제어 기술 등을 발전시켜 고객이 원하는 수준의 소재 특성 향상 및 품질 향상을 위한 연구개발 활동에 노력을 기울이고 있습니다. 이러한 연구개발 결과는 전 세계 첨단 금속 시장에서 에이치브이엠의 경쟁력을 높이는 데 큰 역할을 하고 있습니다. 에이치브이엠의 기술 경영진은 문승호 대표이사(CEO), 최재영 부사장(CTO)으로 구성되어 있습니다. 문승호 대표이사는 금속공학을 전공한 박사 출신 과학자로 서울대학교 박사와 서울대학교 신소재 공동연구소, 키스타(주) 연구소장에 재직하면서 20여 년간 금속 소재의 용해 공정과 소재 특성을 연구하면서 금속 분야의 전문성을 확보하였습니다.

최재영 CTO는 서울대학교 학사·석사·박사학위 소지자이며, 동 업종인 포스코에서 5년 근무한 특급 재료공학 기술자로 전기강판, 후판, 특수합금의 개발연구를 진행하였습니다. 현재 에이치브이엠에서 고청정 용해 공정 및 소재 특성 분석 솔루션의 연구개발을 총괄하고 있습니다. 에이치브이엠은 기술 경영 관리 수준을 높이기 위해 최재영 CTO의 기술 개발 운영 아래 핵심 사업 분야에서 풍부한 역량을 보유한 기술 개발 전문가들이 연구개발 및 사업을 이끌고 있으며, 사업 기획 분야에서 전문성을 가진 주요 경영진이 관리 및 경영 업무 분야를 지원하면서 시너지를 창출하고 있습니다.

또한 문승호 CEO는 대한금속재료학회의 산업 분야 평의원이며 국내외 석학들과 학술교류와 네트워킹을 통하여 최신 특수 금속 및 첨단 금속 정보에 대한 접근이 용이하고 관련 분야의 우수 기업 및 연구자들과 협력 관계를 구축하는 데에 있어 매우 유리합니다. 한국재료연구원과는 패밀리 기업으로 지속적인 연구개발과제 및 교류를 통해 에이치브이엠의 사업의 기술적 성장 전략적인 측면에서 큰 도움을 받고 있습니다. 뿐만 아니라 한국과학기술연구원과 생산기술연구소, 서울대학교, 부산대학교 등 산학연 협력을 통해 공동으로 진행되는 프로젝트에 참여하여 에이치브이엠의 연구원들과 전문 기술 및 지식을 습득하고, 함께 연구를 수행하며 다양한 전문가들로부터 실무 경험과 업계의 최신 기술 동향 및 연구 결과를 빠르게 적용할 수 있으며, 기술 혁신 및 제품 개선에 대한 높은 역량을 확보해 오고 있습니다. 이렇듯 문승호 CEO를 비롯한 핵심 기술 경영진들이 금속재료 분야에서 오랜 기간 동안 현장에서 근무한 경험을 바탕으로 첨단 금속 개발을 위한 단계별 전략을 구체적으로 수립하여 진행 중이며, 기술사업화와 관련된 각종 규제를 파악하고 목표시장과 수요 예측 분석 능력을 갖추고 있습니다.

해당 기술분야에서 오랜 경험을 쌓아온 CEO 및 CTO의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발 및 효율적인 문제 해결에 도움이 됨은 물론 학술 교류와 네트워킹 등 다방면에서 기술 경쟁력을 확보하는데 큰 도움이 됨을 알 수 있습니다. 또한 이와 같은 인력 구성은 에이치브이엠이 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다.

② 연구개발 조직

에이치브이엠의 기술 인력은 설립 초기 고청정 용해 첨단 공정 기술 개발과 소재 특성 분석 기술 개발에 참여한 석·박사급 인력들이며 이후 계속해서 금속 재료 분야 전문성을 가진 석·박사 신규 기술 인력을 영입하고 있습니다. 2023년 8월 기준 연구 및 기술 개발 분야에 총 22명이 근무 중이며, 이 중에서 석사 12명, 박사 4명, 학사 5명 (전 연구원 금속재료 전공)으로 첨단 금속 제조 공정 및 금속 분석 기술 개발과 관련된 인력은 21명, 특허 및 기술동향 Database화 인원은 1명이 있고, 5명 이상의 기술연구원 추가 인원을 채용할 예정에 있습니다.

학력박사석사학사전문학사합계
인원수492116

(단위:명)

연구소는 단순히 인원수만 많은 것이 아니라, 해당 기술 분야의 석,박사들을 비롯하여 오랜 경험을 쌓은 전문가들을 중심으로 운영되고 있으며, 꾸준히 기술 연구원을 추가적으로 채용할 예정에 있습니다. 이는 에이치브이엠이 연구개발의 질적 수준을 높이는 데에 심혈을 기울이고 있음을 나타냅니다. 경험 많은 전문가들의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발과 효율적인 문제 해결에 큰 도움이 됩니다. 또한 이러한 인력 구성은 에이치브이엠이 단기적인 이익보다는 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다. 연구개발에 대한 과감한 투자는 회사의 미래 성장 동력을 확보하고, 시장에서의 선도적 위치를 유지하려는 비전과 전략을 반영합니다.

③ 연구개발 인력 확보 및 유지 방안

에이치브이엠은 사세 확장과 더불어 연구개발 프로젝트 증가로 인해 기술인력을 지속적으로 충원하고 있으며, 고급 기술인력을 영입하기 위하여 상시 인재 채용과 병역특례제도인 전문연구요원 제도 등 다양한 채용방법을 통하여 석,박사급 인력을 충원하고 있습니다.

에이치브이엠은 연구자들의 연구성과 창출을 독려하기 위하여 매년 정기적으로 각 연구자들의 연구개발 성과를 평가하여 연구수당(인센티브)을 지급하고 있고 이와 별개로 직무발명보상제도를 운용하여 특허 출원/등록 시 해당 특허의 중요도를 평가하여 발명자에게 보상금을 지급하고 있습니다. 또한 기술이전과 상품개발에 기반한 사업 성과를 반영하여 연구자에게 인센티브를 지급하고 있습니다.

또한 임직원의 주인의식 함양과 높은 경영 성과를 창출한 임직원에 대한 보상, 임직원의 동기부여를 통한 성과 창출 및 경쟁력 제고, 우수 인력의 확보 및 유지를 위하여 주식매수선택권(스톡옵션)을 부여하고 있고 상장 시기에 맞춰 우리 사주 제도를 도입하여 임직원들이 주인의식을 갖고 능동적으로 일할 수 있는 환경을 구축할 계획을 가지고 있습니다.

뿐만 아니라 에이치브이엠은 기술인력의 동기부여와 만족도 및 통합 관리를 위하여 성과 평가 및 관리 시스템을 구축하여 운영하고 있습니다. 기술인력의 성과측정 및 관리에 있어 연초의 성과계획과 연말의 성과측정 및 성과 보고의 통합적인 운영과 평가대상의 성과계획에 대한 부서장에 의한 사전 검토 등 평가대상에 의한 자체 평가 방식을 동시에 운영하고 있습니다. 각 부서에 부여된 임무에 기초하여 목표 체계를 설정하고 있으며, 이들 목표는 최종적인 상태에 대한 것과 이를 구현하기 위한 중간 단계로서의 목표 등으로 체계화되어 운영하고, 성과측정 및 관리를 위하여, 사전적인 측면에서의 성과계획과 사후적인 측면에서의 성과측정으로 구성되고 있으며, 성과계획은 기관의 임무, 활동의 좌표가 되는 목표 체계, 목표의 성취를 위한 세부적인 활동 계획, 그리고 성과평가를 위한 성과지표 등으로 구성되어 있습니다. 성과계획서의 수립 과정에서 목표 체계, 성과 지표 등에 대한 검토 등을 통해 성과측정 및 관리가 효과적으로 이루어질 수 있도록 관리 및 지원하고 있으며, 성과측정 및 평가를 통해 합리적인 성과보상을 지급하여 기술인력들의 만족도를 높일 수 있도록 관리하고 있습니다.

그리고, 에이치브이엠은 직무발명보상제도를 통해 특허 출원/등록 시 해당 특허의 중요도를 평가하여 발명자에게 보상금을 지급하고 있습니다. 직무발명의 실시, 기술이전의 대가로 인하여 회사에 수익이 발생한 경우에는 당해 수익에서 외부 기관과의 공동 소유 지분 및 회사가 출원 또는 권리 유지 등을 위하여 지출한 비용 등을 공제한 금액(순수익)을 기준으로 하여 발명자에게 보상금으로 지급하고 있습니다.

핵심 인력의 이탈은 연구개발의 지연 등 회사의 사업에 부정적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 지속적으로 인력 관리 전략의 개선이 필요합니다. 또한, 핵심 기술과 노하우의 분산 관리, 지식 관리 시스템 구축 등을 통해 개인 의존도를 낮추는 노력도 병행이 되어야 합니다. 이러한 종합적인 접근은 연구개발 인력의 안정적인 확보와 유지에 기여할 수 있으며, 이는 회사의 지속적인 혁신과 성장의 핵심 동력이 될 것입니다.

2. 연구개발 비용

구분2024년 1분기2023년2022년2021년비고
연구개발비용 계812549723399371325066281786 
정부보조금546884576112555952555149000 
연구개발비/매출액 비율 [연구개발비용계/당기매출액 X 100]10%17%20%21% 

(단위: 천원)

과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP)의 연례 연구개발활동 조사에 따르면 한국의 기업 부문 매출액 대비 연구개발비 비중은 3.64%에 달합니다. 에이치브이엠은 10-20% 정도의 연구개발비를 지출하고 있어 연구개발의 질적 수준을 높이는 것에 집중하고 기술력을 발전시키는 것을 회사의 중점적인 전략으로 여기고 있음을 알 수 있습니다.

3. 연구개발 주요 성과

(1) 연구개발실적

① 외부 과제

외부 과제(정부과제)는 산업부 과제(17건), 중소벤처기업부 과제(4건), 방위사업청 과제(1건)에 대해 연구개발 중이거나 기술 개발 완료하였습니다.

개발 완료 외부 과제

(단위: 백만원)

번호연구과제명주관부서연구기간정부 출연금관련제품비고
1Cold Hearth 기반 저비용 고청정 Ti합금 슬래브제조 및 가공기술 개발산업통상자원부2014.10.01~ 2020.04.314307타이타늄 합금 중간재완료
2융점 2,000℃ 이하 원소로 구성된 강도 1,400MPa, 연신율12%이상 타이타늄신소재 및 수송기기,국방 산업용 응용기술 개발산업통상자원부2016.03.01~ 2020.12.31960타이타늄 신합금 중간재완료
3초미세립 고강도 티타늄 광폭 박판재 및 응용부품 제조기술 개발산업통상자원부2016.06.22~ 2021.07.30370방산무기 부품소재완료
4니켈 합금 6종에 대한 상용표준물질 개발 및 보급산업통상자원부2020.02.01 ~2021.12.31190표준물질 CRM 소재완료
5수소충전 인프라 확충을 위한 수소충전소 고압수소 배관용인장강도 800MPa급 9/16" 스테인리스 심리스 배관 제조 기술 개발산업통상자원부2020.05.01~ 2022.12.31980수소충전소 고압수소배관소재완료
6IT 산업용 초탄성 타이타늄 합금 박판 및 고강도 순수 타이타늄 판재 scale-up 기술 개발중소벤처기업부2020.08.01~ 2022.07.31  700플렉서블 타이타늄 합금완료

진행 중인 외부과제

(단위: 백만원)

번호연구과제명주관부서연구기간정부출연금관련제품비고
1적층성형용 저비용 Ti 합금     솔리드 필러 및 이를 활용한    1000mm급 발전용 최후단 블레이드 제조기술 개발산업통상자원부2019.04.01~ 2024.06.301772터빈블레이드 부품 소재진행중
2TIT 1650 급 가스터빈 정밀주조용 단결정 소재 기술 개발산업통상자원부2020.04.01~ 2024.12.313151고온용 터빈블레이드 부품 소재진행중
3저압터빈 블레이드 10% 경량화를 위한 경량철강 및 블레이드 제조 기술 개발산업통상자원부2020.04.01~ 2024.12.311318경량 터빈블레이드 부품 소재진행중
13탄화수소직접가열분해로개발산업통상자원부2023.07.01~ 2028.12.311650탄화수소직접가열분해로 튜브소재진행중
14전자기기 및 전자파 차폐 소재(Cu-Ti,Cu-Fe계)제조 및 열간압연 생산기술개발중소벤처기업부2021.06.01~ 2025.05.311600전자파 차폐 부품 소재진행중
15발전용 가스터빈 블레이드 유지보수를 위한 3D 프린트용 Ni 합금계 Powder / Wire 개발 및 조형체평가중소벤처기업부2022.05.01~ 2024.04.30325터빈블레이드 수리용 분말 소재진행중

개발 완료 내부 과제

번호연구과제명연구기관 (수요기관)연구결과 및 기대효과연구결과 상품화상품화 내용
1초고순도 Cu-P 스퍼터링 타겟 개발프렉스에어-초고순도 Cu-P 제조기술 개발 -국내 최초 스퍼터링 타겟 소재 국산화 및 상용화O반도체용 스퍼터링 타겟
2디스플레이용 동파이프 타겟 개발삼성전자-초고순도 동파이프 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화 기대X (공급사 독점계약으로 인한 제품납품 불가)디스플레이용 스퍼터링 타겟
3듀플렉스 스테인레스 강 소재 국산화 개발대우조선해양-듀플렉스 스테인레스강 소재개발 -잠수함용 부품소재 국산화O극저온용 잠수함 소재
4고속열차용 프리마운팅 단조 제동 디스크 개발한국철도기술연구원-Micro Alloyed Steel 제조 및 단조/열처리 기술 개발 -해외 프랑스사에서 전량 구입하던 KTX Brake Disk 소재 국산화O (인증 진행 중)KTX Brake Disc
5스퍼터링 타겟용 고순도 Cu 제품 개발삼성전자-초고순도 반도체용 Cu 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화 기대X반도체용 스퍼터링 타겟
6초고순도 스퍼터링 타겟용 C18000 합금의 표면 결함 제어 기술 개발프렉스에어-초고순도 Cu합금 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화O반도체용 스퍼터링 타겟
7우주 발사체용 C18150 합금의 주요 합금 원소 및 기계적 물성 제어 기술 개발해외업체-극미량원소 첨가된 우주발사체용  합금소재 제조기술개발 -우주발사체용 소재제조기술 확보 및 국내 항공우주산업 기술 발전 기여O우주발사체 부품 소재
8고강도/에코 Alloy K500 열간 공정 기술 개발해외업체-우주발사체용 소재제조기술 확보 및 국내 항공우주산업 기술 발전 기여O우주발사체 부품 소재

진행 중인 내부과제

번호연구과제명연구기관 (수요기관)연구결과 및 기대효과연구결과 상품화상품화 내용
1중소형 OLED OMM용 인바합금 제조기술 개발핌스- OMM용 인바합금 광폭판재 제작기술 - 국내 최초 OMM용 소재 국산화 기대진행중OMM용0.1mm 인바합금광폭판재
2Beta annealed 타이타늄 합금 소재 국산화 개발KAI- Beta 타이타늄 합금 제조 기술 개발 - 국내 최조 베타타이타늄 합금 생산 및 품질 인증완료 - 상용화를 통한 국내 항공기 부품 산업발전에 기여O전투기KF21 부품소재

향후 연구개발 계획

(단위: 백만원)

번호PROJECT 명연구기간경상 연구개발비 예상 금액생산제품최종제품수요업체과제 재원 조달방법
1DSA 760 소재 국산화2024.04 ~ 2026.121500[중간재 부품] ø120 X 1200선박엔진 밸브HD현대정부과제
2XR용 극청정 인바합금소재 개발2024.04 ~ 2027.123200[소재 부품] 20㎛, 10um INVAR 박판VR 기기용OLEDAPS Materials내부과제
3KF21 군용기용 13-8Mo 합금소재 개발2023.11 ~ 2024.07480[중간재 부품] 1200 X 1200 X 200TKF21 항공기부품KAI내부과제
4한울 1,2호기 수리용원자력 배관 소재 개발2024.01 ~ 2024.12420[중간재 부품] ø120 X 1200원자력Seamless Pipe한국수력원자력내부과제
5우주발사체용 고청정 Nb 합금 개발2024.04 ~ 2027.124000[중간재 부품] ø100 X 3000우주발사체부품해외X 사정부과제

(2) 지식재산권 보유 내역

에이치브이엠은 원소재 구입부터 용해-단조-압연-열처리-가공-검사-출하 등 제조 기반의 전 단계에 걸쳐각각에 대한 자체 개발된 요소기술을 보유하고 있습니다. 에이치브이엠의 기술연구소에서는 첨단금속 제조 기술들의 중요기술을 특허화하여, 총 15건의 특허를 확보하였습니다.

국내 특허 기술 목록

번호내용권리자출원일자등록일적용제품출원국
1타이타늄 전극용 브리켓 제조장치 및 방법(주)에이치브이엠2014-07-162016-09-29타이타늄 합금 중간재대한민국
2Ni기 합금 잉곳 제조 장치(주)에이치브이엠2020-12-302023-07-26니켈합금 중간재대한민국
3타이타늄 판재의 뒤틀림 방지 냉각장치한국재료연구원 (주)에이치브이엠2020-12-312022-12-15타이타늄 합금 중간재대한민국
4금속 용해물의 인발 장치(주)에이치브이엠2021-01-132022-09-30잉곳대한민국
5타이타늄 판재의 뒤틀림 방지 설비(주)에이치브이엠2021-03-312023-10-30타이타늄 판재대한민국
6고강도 및 고연성을 갖는 크롬-몰리브덴 강 및 이의 제조 방법(주)에이치브이엠2022-02-212022-10-12고강도 철강대한민국
7하이브리드 용해를 통한 고청정 철-니켈 합금의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈 합금(주)에이치브이엠2022-02-212023-04-28FMM용 고청정 인바합금대한민국
8플라즈마 용해로(통전방지)(주)에이치브이엠2022-05-252022-12-26고순도 금속대한민국
9잉곳 제조용 가변 몰드(주)에이치브이엠2022-05-252023-02-06잉곳대한민국
10티탄 구리 합금 및 이를 제조하는 방법(주)에이치브이엠2022-09-19진행중전자소재용 구리합금대한민국
11플라즈마 토치(주)에이치브이엠2022-11-172023-10-23고순도 금속대한민국
12고순도의 은 스퍼터링 타겟 제조 방법 및 이에 의해 제조된 은 스퍼터링 타겟(주)에이치브이엠2022-12-012023-01-05스퍼터링 타겟대한민국
13잉곳 냉각 장치(주)에이치브이엠2023-02-222024-03-15잉곳대한민국
14파인 메탈 마스크용 고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및이에 의해 제조된 철-니켈 합금(주)에이치브이엠2023-04-262024-04-04FMM용 고청정 인바합금대한민국
15고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈합금(주)에이치브이엠2023-06-052023-10-23FMM용 고청정 인바합금대한민국
16진공 아크 재용해시 용해 및 정련 방법(주)에이치브이엠2023-07-132024-02-15고순도 합금대한민국
17고체산화물 연료전지용 스테인레스강 및 이의 제조방법(주)에이치브이엠2023-07-26진행중SOFC용 분리막대한민국
18고압 수소 배관용 고질소 스테인리스강의 제조 방법(주)에이치브이엠2023-11-21진행중고질소 스테인리스강대한민국
19고강도 및 고연성을 갖는 크롬-몰리브덴 강 및 이의 제조 방법(주)에이치브이엠2023-12-28진행중고강도 철강대한민국

해외특허기술 목록

번호내용권리자출원일자등록일적용제품출원국
1플라즈마 토치(주)에이치브이엠2023-07-26-고순도 금속PCT
2파인 메탈 마스크용 고청정 철-니켈 합금의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 철-니켈 합금(주)에이치브이엠2023-07-26-FMM용 고청정 인바합금PCT
3고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈합금(주)에이치브이엠2023-07-26-FMM용 고청정 인바합금PCT

특허권은 연구개발 활동의 중요한 결과물이자 성과 지표로 간주됩니다. 특허 출원 및 등록 건수는 연구개발의 기술적 성과를 측정하는 핵심 지표 중 하나입니다. 여러 연구 결과에 따르면 기업의 특허성과는 연구개발 및 기술혁신과 양의 관계를 가지고, 기업 성과는 특허성과 및 연구개발 강도와 양의 관계를 가지는 것으로 확인되었습니다. 즉, 높은 특허 강도와 연구개발 강도를 보이는 기업일수록 높은 기업 성과를 향유하고 있음을 알 수 있습니다. (한국기술혁신학회, 기술혁신학회지 9권 1호, 박선영 등)
에이치브이엠도 연구개발의 성과를 특허권으로 입증하는 한편 자체 개발한 기술을 특허로 두텁게 보호하고 있는 것을 볼 수 있습니다.

[출처=에이치브이엠 IR자료]

4. 소결

기술특례상장 제도는 혁신적인 기술력을 가진 기업들에게 자본 시장 진입의 기회를 제공하는 중요한 메커니즘입니다. 이 제도를 통해 우리는 연구개발 능력이 기업의 성공과 지속 가능한 성장에 얼마나 핵심적인 요소인지 명확히 볼 수 있었습니다.

연구개발에 지속적으로 투자하고 혁신을 추구하는 기업들은 시장에서 더 높은 평가를 받고 있으며, 이는 투자자들이 기술력과 미래 성장 잠재력을 중요하게 여긴다는 점을 시사합니다. 따라서 기술특례상장을 준비하는 기업들은 단순히 재무적 성과에만 집중하는 것이 아니라, 지속적인 연구개발 투자와 혁신 역량 강화에 주력해야 합니다.

에이치브이엠은 항공 소재, 연료전지용 분리판, 수소 에너지 분야, 고청정 합금, 발전 소재, 전자 소재 등의 분야에서 핵심적인 기술들을 보유하고 이를 특허로 보호하여 기술적 진입 장벽을 구축하고 있습니다. 이를 통해서 에이치브이엠은 스페이스X를 비롯한 국내외의 주요 기업들과의 협력 관계를 맺고 지속적으로 우주 분야 등 신규 시장에 진출하고 매출을 상승시키는 한편 성장 잠재력과 기술력을 인정받아 기술특례상장에 성공할 수 있었습니다. 이렇듯 혁신적인 기술 개발과 특허 등록은 회사의 성장과 주식시장 상장에 긍정적인 영향을 줄 수 있으며, 향후에도 시장에서의 경쟁력을 유지하는 데 중요한 역할을 할 수 있는 것을 확인할 수 있습니다.

안녕하세요, 진솔국제특허법률사무소입니다.

기업이 공공기관에 제품을 납품하는 것은 단순한 매출 이상의 의미를 갖습니다. 시장 신뢰도 확보, 브랜드 가치 제고, 그리고 안정적인 매출 기반 확보로 이어지기 때문입니다. 특히 공공기관과의 거래는 중소기업에게 레퍼런스 확보와 지속적 수익 창출의 기회를 동시에 제공합니다.

이러한 기회를 선점하기 위한 대표적 제도가 바로 NEP(신제품인증) 제도입니다.

1. NEP(New Excellent Product) 인증제도란?     

국내에서 최초로 개발된 신기술 또는 기존기술을 혁신적으로 개선한 기술이 적용된 신제품을 평가하여 정부가 인증함으로써, 판로확대 지원 및 기술개발을 촉진하기 위한 제도입니다.

2. NEP 신청자격 및 인증대상은?

신청자격: 신제품을 인증받고자 하는 기업, 대학, 연구기관의 대표(장)

인증대상: 국내에서 최초로 개발하는 기술 또는 이에 준하는 대체기술로서 기존의 기술을 혁신적으로 개선-개량한 신기술이 적용된 제품

인증 제외 대상: 식품, 의약품 및 의료기기(3,4등급) / 제품을 구성하는 핵심 부품 일체가 수입품인 제품/ 이미 국내에서 일반화된 기술을 적용한 제품/ 적용한 신기술이 신제품의 고유 기능과 목적을 구현하는데 필요하지 아니한 제품

3. NEP 신청 분야는?

신제품인증의 신청분야는 6개의 기술분야와 24개의 전문분과 위원회로 구성되어 있습니다.

4. NEP 구비서류는?

(1) 신청서식

- 신제품(NEP)인증 신청서(온라인 작성 후 출력, 원본 우편(방문)제출 필수)

- 신청제품 설명서(별지 제8호 서식)

(2) 구비서류

5. NEP 심사절차는?

NEP 심사절차는 크게 1차 심사(서류 면접심사)와 2차 심사(현장심사)로 나뉘어져 있습니다.

6. NEP 인증혜택은?

-공공기관 20% 의무구매(산업기술혁신촉진법, 산업통상자원부)

-공공기관 우선구매 대상(중소벤처기업부)

-산업기술혁신촉진법에 따라 산업기반자금 융자사업자 선정 시 우대

-기술우대보증제도 지원대상(기술심사 면제)

-혁신형 중소기업 기술금융지원

-중소기업기술혁신개발사업에 가점(중소벤처기업부)

-자본제공조합의 입찰보증, 계약보증, 차악보증, 지급보증, 하자보증 우대지원

-신기술실용화 정부포상 대상

7. NET인증과 NEP인증의 제도 비교

NET(신기술인증) 제도와 NEP(신제품인증) 제도는 혼동될 수 있지만, 두 제도는 각각 다른 목적과 대상을 가지고 있습니다. 이 차이점을 정확히 이해하는 것이 중요합니다.

NET(신기술인증)2년이내 상용화가 가능한 기술로서, 기존 제품의 성능을 획기적으로 개선한 신기술에 부여됩니다. 즉, 아직 상용화되지 않았지만 기존 기술을 뛰어넘는 혁신적인 기술 개발이 주된 목표입니다. 기술의 발전 가능성과 실현성을 인정받아 시장에 진입할 준비 단계에 있는 기술이 NET(신기술인증)의 대상입니다.

반면 NEP(신제품인증)국내에서 최초로 개발된 기술이 적용된 제품이거나, 이미 실용화가 완료되어 판매 실적이 있는 제품이 그 대상입니다. 즉, 기술 개발이 끝나고 실질적으로 시장에서 판매중인 제품이 NEP 인증을 받을 수 있습니다. 이는 개발을 넘어 시장에 출시된 제품의 우수성을 인정받는 제도라고 할 수 있습니다.

두 제도의 핵심 차이는 NET는 기술 자체의 혁신성에 중점을 두고, NEP는 국내 최초 개발 기술을 적용하여 실용화된 제품을 평가하여 인증을 받는 점입니다. 각 제도의 특성을 잘 파악하여 해당하는 인증을 준비하는 것이 중요합니다.

또한, NET(신기술인증)와 NEP(신제품인증)를 받으면 모두 다양한 혜택을 제공받을 수 있지만, 두 인증 사이에는 중요한 차이점이 있습니다. 특히 NEP(신제품인증)는 공공기관의 20% 의무구매 제도가 있다는 점에서 큰 이점을 가지고 있습니다.

이 제도는 공공기관이 NEP 인증 제품을 일정 비율 이상 의무적으로 구매해야 하기 때문에, 인증을 받은 제품은 안정적으로 공공시장에 진입할 수 있는 기회를 얻게 됩니다.

이는 매출 증가뿐만 아니라, 시장에서의 신뢰도를 높일 수 있는 매우 효과적인 지원책으로 작용할 수 있습니다. 반면, NET(신기술인증)는 주로 기술의 혁신성과 상용화 가능성을 인정받는데 중점을 두고 있어, 공공기관 구매 혜택과는 차별화된 부분이 있습니다.

지금까지 NEP 인증에 대해 알아보았습니다. NEP 인증에 대해 더 궁금한 점이 있으시거나 도움이 필요하시면 언제든지 저희 사무소로 연락 주세요!

생성형AI 특허의 시대 – ChatGPT와 DeepSeek

지난 뉴스레터에서 설명한 것과 같이 인공지능(AI) 기술이 급격히 발전하면서, 이를 보호하기 위한 특허 출원이 활발해지고 있습니다. 특히, ChatGPT와 같은 대형 언어 모델(LLM)의 등장은 AI의 활용 범위를 크게 확장시키며, 기업들이 AI 특허 전략을 본격적으로 고민하도록 만들었습니다. 최근 AI 연구의 흐름을 보면 단순한 모델 크기 확장을 넘어, 효율적인 추론 방식강화학습 기반의 최적화가 중요한 연구 주제로 떠오르고 있습니다.

이번 뉴스레터에서는 ChatGPT딥시크(DeepSeek) AI의 최근 이슈를 살펴보며, AI 발명의 특허출원을 어떻게 준비해야 되는지 알아보도록 하겠습니다.

1. ChatGPT와 추론 모델   

GPT(Generative Pre-trained Transformer)는 대규모 언어 모델(LLM)의 대표적인 예시로, 방대한 양의 텍스트 데이터를 사전 학습(Pre-training)한 후, 특정 작업에 맞게 미세 조정(Fine-tuning)하여 활용됩니다. OpenAI는 GPT-3의 업데이트 버전인 GPT-3.5를 기반으로 ChatGPT를 출시하였고, 이후 GPT-4에서는 멀티모달 AI 기능(텍스트뿐만 아니라 이미지도 처리 가능)과 향상된 추론 능력을 도입했습니다.

[AI의 블랙박스 특성과 설명 가능한 인공지능(XAI)]

최근 AI 모델의 추론 방식은 단순히 GPU 수를 늘리고 학습 데이터를 확대하는 전통적인 방식에서 벗어나, Chain of Thought(CoT) 추론 방식을 적극적으로 도입하고 있습니다. CoT 방식은 AI가 복잡한 문제를 단계적으로 논리적으로 풀어낼 수 있도록 유도하는 접근법입니다. 기존의 AI 모델들은 단순한 패턴 매칭에 기반한 응답을 생성하는 경향이 강했지만, CoT 방식은 인간의 사고 흐름을 모방하여 AI가 자체적으로 문제를 분석하고 해결할 수 있도록 합니다. 이러한 방식은 특히 수학 문제 해결, 코드 작성, 논리적 추론이 필요한 작업에서 뛰어난 성과를 보이고 있습니다.

AI 모델의 신뢰성과 투명성에 대한 요구가 커지면서 설명 가능한 AI(XAI, Explainable AI) 기술이 함께 주목받고 있습니다. XAI는 AI 모델이 왜 특정한 결론을 도출했는지 이해할 수 있도록 설명하는 기술로, CoT 방식과 결합할 경우 AI의 추론 과정이 더욱 명확해질 수 있습니다. 이는 특히 의료, 법률, 금융 등 AI의 의사결정이 중요한 영향을 미치는 분야에서 필수적인 요소가 되고 있습니다.

이처럼 ChatGPT를 비롯한 최신 AI 모델들은 단순한 데이터 학습을 넘어 더 효율적이고 정교한 추론을 수행할 수 있는 방법론을 모색하고 있습니다.

2. 딥시크(DeepSeek)와 ChatGPT

딥시크(DeepSeek)는 GPT 계열의 모델과는 다른 강화학습 기반의 최적화 방식을 사용합니다. OpenAI의 ChatGPT가 대규모 언어 모델과 강화학습을 조합한 방식으로 발전했다면, 딥시크는 강화학습 최적화(RL Optimization) 기법을 중심으로 모델을 개선해 왔습니다.

특히, 딥시크 V3부터는 AI가 자체적으로 답변을 평가하고 새로운 데이터를 생성하는 구조를 채택하였습니다. 이는 기존 AI 모델이 필요로 했던 크리틱(critic, 비교 평가자)을 제거하고, 더 적은 컴퓨팅 자원으로 더 높은 효율성을 확보할 수 있도록 합니다. GPT 계열 모델들이 여전히 방대한 데이터와 컴퓨팅 파워를 요구하는 반면, 딥시크는 자체적인 학습 최적화 능력을 강화함으로써 효율성을 극대화하는 방향으로 발전하고 있습니다.

강화학습이 효과적으로 작동하기 위해서는 양질의 콜드스타트(Cold Start) 데이터가 필수적입니다. 이에 따라 데이터를 확보할 수 있는 플랫폼의 중요성이 점점 커지고 있으며, 데이터 보유 여부가 AI 기술 경쟁력을 결정짓는 핵심 요소로 자리 잡고 있습니다.

양질의 콜드스타트 데이터 중요성이 대두되는 시점에서, 데이터들을 확보할 수 있는 플랫폼 기업으로 테슬라, 애플과 같은 기업들에 관심이 쏠리고 있습니다.

3. AI 발명과 특허출원, 어떻게 준비해야 할까?

AI 기술은 이제 단순한 알고리즘을 넘어 다양한 산업과 제품에 실질적으로 적용되며, 그 중요성이 점점 커지고 있습니다. 이에 따라 AI 관련 발명을 특허로 보호하고자 하는 수요도 꾸준히 증가하고 있습니다. 그렇다면 AI 발명을 어떻게 준비해야 할까요?

(1) AI 발명의 두 가지 유형: 학습 모델링 vs 응용 기술

AI 발명은 크게 AI 학습모델링 발명AI 응용 발명으로 구분됩니다.

AI 학습모델링 발명

AI 모델 자체를 설계하거나 학습하는 기술로, 예컨대 학습 데이터의 구성, 손실함수 설계, 하이퍼파라미터 튜닝 등을 기반으로 AI 모델을 학습 및 평가하여 최적의 모델을 구축하는 기술입니다.

AI 응용 발명

학습된 AI 모델을 특정 목적에 응용하는 기술로, 예를 들면 음성인식, 이미지 생성, 자동 번역, 이상 탐지 등이 있습니다. 즉, AI 기술을 실생활에 접목하여 구체적인 기능을 수행하게 만드는 부분입니다.

이처럼 AI 발명의 성격에 따라 특허 전략도 달라지기 때문에, 자신의 기술이 어느 유형에 속하는지를 먼저 분명히 하는 것이 중요합니다.

(2) AI 기술이 특허로 등록되기 위한 핵심 요건

AI 기술이 특허로 인정받기 위해서는 다음 세 가지 조건을 충족해야 합니다.

특히 AI 기술은 “AI를 사용했다”라는 점만으로는 진보성을 인정받기 여렵습니다. 따라서 AI 기술의 적용 방식, 처리 구조, 성능 향상 정도 등을 구체적으로 입증하는 것이 매우 중요합니다.

(3) AI 특허는 어떻게 준비해야 할까?

다음은 실제 특허 출원 시 진보성 판단에 도움이 되는 구체적 전략입니다

데이터 전처리에 기술적 특징이 있는 경우

AI 시스템에서 데이터를 어떻게 처리하느냐는 모델 성능에 큰 영향을 미칩니다. 만약 발명이 단순히 “데이터 전처리를 수행한다”고만 되어 있다면 이는 기존 기술자의 단순 창작으로 볼 수 있습니다. 그러나 예를 들어 모션 추적 정보를 벡터화하거나, 정규 표현식으로 로그 이벤트를 분류·필터링하는 등 전처리 기법이 구체적으로 기재되어 있고, 이에 따라 모델의 성능이 명확히 향상된다면, 이는 진보성 인정의 핵심이 됩니다.

학습모델 자체에 기술적 특징이 있는 경우

단순히 CNN, LSTM, ANN을 사용한다고 해서 진보성이 인정되진 않습니다. 하지만 하이퍼 파라미터 최적화, 학습환경 구성, 학습모델 검증, 복수의 학습모델들의 연계, 분산 또는 병렬처리 등 학습 구조 자체에 기술적 특징이 구체적으로 기재되었고, 예측 정확도나 처리 속도 등의 성능 향상 효과가 명확한 경우, 이는 진보성이 인정될 수 있습니다.

학습 결과물(결과 데이터) 활용에 특징이 있는 경우

AI 모델이 내놓은 결과를 단순히 출력하는데 그치지 않고, 이를 구체적인 판단, 결정, 실행에 활용하고 있다면 진보성을 인정받을 수 있습니다.

예를 들어 AI 모델을 통해 사고차량의 파손상태를 산출하는 방법이 공지된 기술이라고 하면, AI 모델을 통해 사고차량의 파손 정보를 분석하여 보험료율 변동을 예측하고, 이를 기반으로 사용자 단말에 비용을 산출하여 제공하는 구조는 사고차량의 파손상태를 산출만 하는 기존 기술에 비해 사용자가 선택하는 수리 유형에 따라 예상되는 보험료 상승을 미리 예측할 수 있도록 함으로써 사용자 편의를 높이는 효과가 발생하고, 기존 기술에 비하여 예측되는 효과 이상의 더 나은 효과로 판된되어 진보성이 인정될 수 있습니다.

산업 분야가 다른 경우

같은 AI 기술이라도 적용 산업이 달라지면 그 효과가 달라지는 경우가 있습니다. 출원 기술이 기존 AI 기술을 활용했더라도, 해당 산업의 오랜 미해결 과제를 해결하거나, 기술적 곤란을 극복했다면 진보성이 인정될 수 있습니다. 이때  산업분야의 변경에 따른 예측되는 효과 이상의 더 나은 효과’의 발생 여부는 통상의 기술자가 발명의 설명에 기재된 객관적인 증거 또는 구체적인 실시예 등으로부터 쉽게 인식할 수 있어야 합니다.

학습 데이터에 특징이 있는 경우

학습 데이터 자체에 차이가 있다고 해서 진보성이 무조건 인정되지는 않습니다. 그러나 그 학습 데이터가 AI 모델의 성능을 실질적으로 변화시키는 방식으로 설계되어 있거나, 그 정보 처리 방식이 구체적으로 기재되어 있다면, 진보성 판단에 긍정적으로 작용할 수 있습니다.

AI 기술의 특허화는 단순히 ‘기술을 보호한다’는 수준을 넘어, 향후 기술 상용화와 사업화 전략의 핵심이 됩니다. 따라서 초기 기획 단계부터 어떤 점이 기술적으로 새로운지, 그 효과는 무엇인지, 이를 어떻게 설명할 수 있을지를 충분히 고려해야 합니다.

진솔국제특허법률사무소는 AI 기술의 트허 출원을 위한 전략적 컨설팅을 제공합니다.

기업 맞춤형 AI 특허 전략이 필요하시다면, 언제든지 문의해주세요!

1. 리적 표시 단체표장이란? 필요한 이유

지리적 표시 단체표장은 지리적 표시를 사용할 수 있는 상품을 생산∙제조 또는 가공하는 자가 공동으로 설립한 법인이 직접 사용하거나 그 소속 단체원에게 사용하게 하기 위한 표장을 말합니다.

지리적 표시 단체표장은 특정 지역의 고유한 지리적 환경과 생산 방식에서 비롯된 상품의 특성과 명성을 보호하고, 소비자에게 정확한 품질 정보를 제공하기 위하여 별도로 규정된 상표의 한 유형입니다. 종래에는 별도의 규제가 없어 누구나 유명한 지리적 명칭을 사용할 수 있었고, 품질이 낮거나 지역 특산물과 관련이 없는 제품에도 지리적 명칭이 무분별하게 사용되어 소비자를 혼동시키는 문제가 발생했습니다. 예컨대 특정 지역의 상품으로 유명한 '영덕 대게', '안흥 찐빵'과 같은 이름이 아무런 규제 없이 사용되어 소비자들이 진짜 영덕산 대게인지, 안흥 찐빵인지를 구분하기 어려웠습니다.

지리적 표시 단체표장 제도가 도입되면서, '영덕 대게', ‘안흥 찐빵’,‘울릉도 호박엿’,'장흥 표고버섯’등은 지리적 표시 단체 표장으로 등록되어 보호받을 수 있게 되었으며, 소비자들은 안심하고 제품을 구매할 수 있게 되었습니다.

2. '지리적 표시'란 무엇이며, 상표법상 취급은 어떨까요?

지리적 표시란, 상품의 특정 품질ㆍ명성 또는 그 밖의 특성이 본질적으로 특정 지역에서 비롯된 경우에 그 지역에서 생산ㆍ제조 또는 가공된 상품임을 나타내는 표시를 의미합니다. 일반적으로 지리적 표시 자체는 상품의 산지 또는 품질을 나타내는 것으로서 식별력이 없는 것으로 취급되어 단독으로는 상표 등록이 어렵습니다. 그러나 특정 요건을 충족할 경우 '지리적 표시 단체표장'으로서 등록받아 보호받을 수 있습니다. 즉, 지리적 표시는 특산품의 품질 보증 역할을 하며, 이를 통해 소비자들에게 신뢰를 주고 지역의 특산물을 보호하는 기능을 수행합니다.

3. 지리적 표시 단체표장을 출원하려면?

지리적 표시 단체표장으로 등록받기 위해서는 다음과 같은 조건이 필수적으로 충족되어야 합니다.

출원 시에는 다음 사항을 주의해야 합니다.

이러한 부분들은 전문가의 판단이 필수적이며, 저희 사무소는 이러한 복잡한 절차를 명확히 안내하고 모든 단계에서 지원을 드리고 있습니다.

4. 지리적 표시 단체표장 등록 후 효력

지리적 표시 단체표장을 등록하면 해당 지역 내의 구성원들은 그 상표를 독점적으로 사용할 수 있는 권리를 얻게 됩니다. 그러나 효력은 대상 지역 내에서 동일 상품에 대해서만 한정되어 적용됩니다. 예를 들어 '광주'라는 이름을 가진 지역이 전라도와 경기도에 각각 존재할 경우, 이들 지역은 서로 독립적인 권리를 가지며 타 지역의 동음이의어 지역에 대해서는 상표권 행사가 제한됩니다.

그러나 타 지역에서 상표권을 무단 사용하는 경우, 권리자는 적극적으로 지리적 표시 단체표장을 주장하여 제3자의 무단 사용을 막을 수 있습니다.

5. 등록 후 관리의 중요성: '광천김' 사건의 교훈

지리적 표시 단체표장은 등록만큼이나 등록 이후 단체 규정 준수 확인 및 무단 사용 단속 등 지속적인 관리가 매우 중요합니다.

최근 특허법원은 '광천김' 지리적 표시 단체표장 등록을 취소하는 판결을 내렸습니다(2022허5690 판결). 이 사건은 지리적 표시 단체표장에 대한 최초의 등록 취소 사례로서, 지리적 표시 단체표장권자의 관리 의무의 중요성을 강조하고 있습니다.

주요 사실관계 및 판결 요지:

법원은 이러한 행위가 상표법 제119조 제1항 제2호, 제7호 가목 및 다목에 해당하는 지리적 표시 단체표장의 등록 취소 사유에 해당한다고 판단하였으며, 지리적 표시 단체표장권자는 소속 단체원의 사용을 엄격히 관리하고, 무단 사용에 대해 적극 대응해야 할 의무가 있다고 강조했습니다.

이 사건을 통해 지리적 표시 단체표장 등록 후에도 지속적인 관리 감독이 필수임을 다시 한번 확인할 수 있습니다.

6. 지리적 표시 단체표장에 주목해야 하는 이유

지리적 표시 단체표장은 단순히 지명을 보호하는 것을 넘어 지역 경제와 브랜드 전략의 핵심 수단으로 자리매김하고 있습니다.

공동 브랜드 가치 제고: 생산자들이 단체표장을 공동으로 사용·관리함으로써 지역 전체의 브랜드 파워를 높이고 경쟁력을 강화할 수 있습니다.

품질 및 명성 보호:지리적 표시 단체표장은 상품의 품질 기준을 정관으로 명확히 함으로써 소비자가 안심하고 선택할 수 있도록 돕고, 지역 상품의 명성을 유지·제고합니다.

무임승차 방지: 지역 외부에서 생산되었거나 기준을 충족하지 못하는 상품이 지리적 표시를 무단 사용하는 것을 차단하여, 정당한 생산자의 가치를 보호할 수 있습니다.

지리적 표시 단체표장은 단순한 상표 보호를 넘어, 우리 지역의 명성과 전통을 지키고 지역 경제를 활성화하는 중요한 제도입니다. 지리적 표시 단체표장을 통해 정당한 생산자가 보호받고, 소비자는 믿고 구매할 수 있는 투명한 시장 환경이 조성됩니다. 등록 이후 철저한 관리와 지속적인 품질 유지가 그 가치를 결정짓는 만큼, 관련 단체와 생산자들의 꾸준한 관심과 노력이 필요합니다.

지리적 표시 단체표장 등록 및 운영에 대해 더 궁금하신 점이 있다면, 전문적인 법률 상담을 통해 정확한 절차와 요건을 확인하시길 권장드립니다.

[출처: 코셈]

1. 코셈 회사 개요 및 연구개발 조직 구성

(1) 코셈

코셈은 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope, SEM)과 전처리 장비(이온밀러, 이온코터) 및 그 주변 기기를 개발, 제조 및 판매하는 것을 주 사업 목적으로 하는 기업입니다.

코셈은 2007년 6월 Normal SEM 제품인 CX-100S를 개발하여 국산화하였으며, 이후 제품 개발을 지속하여 시장 접근이 용이하고 기술 개발 기회가 많은 Tabletop형 전자현미경 개발로 선회한 후 Tabletop SEM, Normal SEM, 이온밀러, 이온코터 등의 제품군을 개발하여 판매 중에 있습니다. 이러한 핵심기술과 관련하여 하전입자 광학기술, 소형 이온건 설계 기술, 전자현미경 융복합 기술 등의 요소기술을 확보하고 있습니다.

코셈의 전체 매출의 70% 이상은 해외 판매를 통해 이루어지고 있으며, 전 세계에 17개 독점대리점 과 10여 개 딜러망을 통해 제품 판매 및 유지보수 서비스를 진행 중에 있습니다. 또한 최근 3년간 기존 매출처에 대한 납품 품목이 확대되는 한편 신규 매출처가 추가되어 매출 성장이 이루어지고 있고, 전기차/이차전지 제조사에 불량제품 분석용 제품(Tabletop SEM 및 EDS) 납품 계약이 이루어지기도 하는 등 지속적인 성장세를 보이고 있습니다.

(2) 주사전자현미경(SEM) 시장의 특징

주사전자현미경

주사전자현미경(SEM, Scanning Electron Microscope) 시장은 기술 발전, 다양한 산업 분야에서의 활용 증가, 그리고 연구개발(R&D) 활동의 확대로 인해 빠르게 성장하고 있는 분야입니다. SEM은 고해상도의 이미징과 분석 능력을 제공하며, 반도체, 생명과학, 재료과학 등 다양한 산업에서 필수적인 도구로 자리 잡고 있습니다.

주사전자현미경(SEM) 세부모델 간 비교

Normal SEM- 일반적인 전자현미경으로 높은 배율(10~300,000배)과 최대 분해능(3nm)을 제공하며, 주변기기(EDS, EBSD, WDS 등)를 함께 이용하여 다양한 시료분석이 가능합니다. -  다만, 전문가 수준의 사용자가 있어야 측정 및 관찰이 가능하며, 대기업의 중앙연구소나 공동연구기관이 아닌 개별화된 소규모 연구실, 전문가가 없는 산업현장에서 바로 사용하기가 어려운 단점이 있습니다.
Tabletop SEM- Normal SEM보다 쉽고 간편하게 시료 표면을 관찰할 목적으로 제작된 제품입니다. - 다만, 배율(20~150,000배) 및 최대 분해능(5nm) 등 성능은 Normal SEM에 비해 낮습니다. - 2010년 초부터 전문가가 없는 산업현장이나 개별화된 소규모 연구실에서 수요가 증가하는 추세입니다. - 코셈의 전체 매출의 70% 수준을 차지하는 주력 제품 분야입니다.

시장 성장 동향

빠른 성장률: 글로벌 주사전자현미경(SEM) 시장 규모는 2021년 44억 344만 달 러 (5조 394억 원)에서 연평균 성장률 7.9%(9.8%)로 증가하여, 2028년에는 75억 1,645만 달러(9조 7,109억 원)에 이를 것으로 전망되며, 국내 주사전자현미경 시장은 2021년 1,480억 원(1억 2,930만 달러)에서 연평균 성장률 9.9%(8.0%)로 성장하여 2028년에는 2,862억 원(2억 2,153만 달러)에 이를 것으로 예상됩니다.

지역별 성장: 아시아 태평양 지역이 가장 빠른 성장을 보이고 있으며, 북미와 유럽이 뒤를 잇고 있습니다. 특히 중국, 일본, 한국 등은 반도체 및 전자 산업의 강세로 인해 주요 시장으로 부상하고 있습니다.

[출처: Microscope Market forecast to 2028, the insight partners, 2021]

주요 응용 분야

반도체 및 전자: 반도체 제조 공정에서 미세 구조 분석 및 품질 관리를 위해 널리 사용됩니다.

생명과학: 세포, 조직, 미생물 등 생물학적 샘플의 고해상도 관찰에 활용되며, 의료 연구와 약물 개발에서도 중요합니다.

재료과학 및 나노기술: 재료의 표면 구조와 화학적 특성을 분석하는 데 필수적입니다.

④ 기술 발전

고해상도 및 자동화: 최근 SEM은 더 높은 해상도와 자동화 기능을 갖춘 모델로 발전하고 있습니다. 예를 들어, 필드 방출(FEG) SEM은 기존 모델보다 더 나은 해상도를 제공합니다.

소형화 및 휴대성: 소형 탁상형(Tabletop) SEM이 등장하여 중소형 연구실에서도 쉽게 사용할 수 있도록 접근성이 향상되었습니다.

통합 기술: 에너지 분산 X선 분광기(EDS)와 같은 추가 장치를 통합하여 화학적 분석 능력을 강화한 모델이 출시되고 있습니다.

[출처: 코셈 IR Book]

⑤ 시장 경쟁

SEM 시장은 Thermo Fisher(24.6%), Hitachi(7.4%), JEOL(4.5%), Zeiss(6.6%) 등 글로벌 기업들이 주도하고 있습니다. 이들 상위 5개 기업이 전체 매출의 약 94%를 차지하고 있는 과점 시장입니다. 한국에서는 코셈과 같은 기업들이 소형 SEM 개발로 경쟁력을 확보하고 있으며, 국내외에서 점유율을 확대하고 있습니다.

(3) 코셈 연구개발 조직

① 개요

코셈의 인력은 동업종에서 20여 년간 연구개발 및 사업 경력을 보유한 이준희 대표, 기술이사, CFO, 생산총괄, 하드웨어 개발총괄, 시스템 개발총괄, 기술인력 등으로 구성되어 있습니다.

또한 전체 임직원 50명 중 17명인 약 34% 가 연구개발 인력으로 구성되어 있으며, 회사의 지속적인 성장을 유지하기 위해서는 연구개발을 통해 급격하게 변화하는 고객사의 요구에 맞는 제품을 적시 개발 및 공급해야 하기 때문에 기술변화 환경에 대응하고 과거의 경험을 활용할 수 있는 연구개발 인력의 확보 및 관리가 중요한 만큼 연구 개발 인력을 회사의 핵심 자산이자 경쟁력으로 보고 있습니다. 또한 이러한 높은 비율의 연구 인력 배치는 혁신과 기술 발전을 최우선 과제로 삼고 있다는 점을 분명히 보여줍니다.

또한 연구소는 단순히 인원수만 많은 것이 아니라, 대부분의 인력이 해당 분야에서 유사한 기술개발을 경험한 연구원들을 중심으로 구성되어 운영되고 있습니다. 이는 코셈이 연구개발의 질적 수준을 높이는 데에도 심혈을 기울이고 있음을 나타냅니다. 경험 많은 전문가들의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발과 효율적인 문제 해결에 큰 도움이 됩니다.

뿐만 아니라 코셈은 계속해서 연구개발 인력 충원을 통해 핵심 경쟁력을 강화하려 노력하고 있으며 상장 이후에도 지속적인 인력 충원을 통해 연구개발부서의 경쟁력 강화를 모색하고 있습니다.

이러한 인력 구성 및 연구개발 인력의 지속적인 충원은 코셈이 단기적인 이익보다는 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다. 연구개발에 대한 과감한 투자는 회사의 미래 성장 동력을 확보하고, 시장에서의 선도적 위치를 유지하려는 비전과 전략을 반영합니다.

② 연구개발 조직

학력박사석사학사기타합계
인원수1106-17

연구개발 인력 확보 및 유지 방안

코셈은 연구개발 인력의 확보와 유지를 위해 다각도의 노력을 기울이고 있습니다. 특히 국내에 SEM 기반기술을 확보하고 있는 전문 인력이 많지 않아 경쟁사로의 인력유출위험이 상시 존재하고, 핵심인력 유지가 기술경쟁력과 직결되어 있다고 파악하고 있습니다.

이에 따라 코셈은 기존의 우수한 인력의 장기근속을 유도하고 외부의 우수 인력 충원을 통해 핵심 경쟁력을 확보하고자 합리적인 보상체계를 설계하고 직무발명보상제도를 도입하는 등 제도적인 장치를 마련하였으며, 총 10차례에 걸친 주식매수선택권 부여를 통해 임직원의 사기를 고취하는 등 핵심인력의 유지를 위해 다양한 조치를 취하고 있습니다. 주식매수선택권(스톡옵션) 제도는 단순히 금전적 보상을 넘어 회사의 성과와 개인의 이익을 연동시켜 임직원들의 충성도를 높이고 장기적인 동기부여를 하는 효과적인 방안입니다.

또한 코셈은 연구수행 프로젝트에 따라 자체 연구를 하거나 우수 연구기관과 공동 연구를 수행하여 첨단 기술 및 연구 경향을 받아들여 제품 개발의 효율성을 높이고 있습니다.

코셈은 이러한 노력에도 불구하고 인력 이탈의 위험성을 인지하고 있습니다. 핵심 인력의 이탈은 연구개발의 지연 등 회사의 사업에 부정적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 지속적으로 인력 관리 전략을 개선하고 있습니다. 또한, 핵심 기술과 노하우의 분산 관리, 지식 관리 시스템 구축 등을 통해 개인 의존도를 낮추는 노력도 병행하고 있습니다.

코셈의 이러한 종합적인 접근은 연구개발 인력의 안정적인 확보와 유지에 기여하고 있으며, 이는 회사의 지속적인 혁신과 성장의 핵심 동력이 되고 있습니다.

코셈 직무발명보상제도

구분내용
적용 범위회사의 임직원 또는 임직원이 제 3 자와 공동으로 한 발명, 고안의 취급 및 그 보상금의 지급에 관하여 적용

코셈 포상 기준

등급기준 및 상세포상금액
1등급특허 등록, 논문 등록 및 발표300000원
특허에 상당한 아이디어(특허 출원, 논문 제출)200000원
2등급효과가 상당한 아이디어 상당한 노력을 하였으나 추가 노력을 지속적으로 요구하는 경우 이미 알려진 사실에 대해 체계적인 정리를 한 경우100000원
3등급효과적인 아이디어30000원

2. 연구개발 비용

코셈 연구개발비용 비율

(단위: 백만원)

과목202120222023 3분기비고
연구개발비용 계145315421547-
정부보조금----
연구개발비/매출액 비율 (연구개발비용 계 ÷ 당기매출액 × 100)15.31%12.31%17.35%-

과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP)의 연례 연구개발활동 조사에 따르면 한국의 기업 부문 매출액 대비 연구개발비 비중은 3.64%에 달합니다. 코셈은 12~17% 정도의 연구개발비를 지출하고 있어 평균보다 매우 높은 수준의 연구개발비용을 지출하고 있는 것을 알 수 있습니다.

공모자금 사용계획

(단위: 백만원)

구분202420252026합계
연구개발비1420178010224222
시설자금26021513451820
운영자금600110014003300
합계2480309537679342

연구개발비 사용 계획

(단위: 백만원)

구분내역202420252026합계
연구 개발
자금
신제품 개발CP-SEM650600-1250
AIR-SEM5207805001800
Tabletop FE-SEM150250277677
AI-SEM100150245495
소계1420178010224222

각 신규 제품의 상용화를 위해 연구개발이 필요한 개발 예정 기술

제품개발 예정 기술
CP-SEM1) SEM과 CP의 챔버 통합 기술(CP의 모듈화) 2) CP 모듈로부터 유입되는 진동노이즈 차단기술 3) CP 식각으로 인한 챔버오염 방지기술 4) SEM과 CP의 통합 운용 소프트웨어 기술
AIR-SEM1) 기압차와 전자빔에 대한 내구성과 전자투과율이 향상된 멤브레인 박막 기술 2) 진공파괴시 시스템 보호 장치 기술 3) Air-SEM 특성으로 인한 전자산란 현상의 노이즈 이미지 보정 기술
Tabletop FE-SEM1) FE-gun 제작 및 안정화 기술 2) 저잡음 회로 설계 기술 3) 초고진공 시스템 설계 및 제어 기술
AI-SEM1) 딥러닝 학습인자 및 제어인자의 고도화를 통한 알고리즘 성능 향상 기술 2) 고분해능 스테이지 위치 제어 기술 3) 이미지 정확도 확보를 위한 시스템 보정 기술

코셈은 공모자금의 절반 이상을 지속적인 향후 성장을 위한 연구개발비 및 연구소 등의 시설투자 자금으로 활용하여 신제품을 개발할 계획을 세우고 있는 것을 볼 수 있습니다. 즉, 이는 코셈이 무엇보다도 연구개발을 가장 우선순위에 두고 있다는 것을 보여주고 있습니다.

개발 중인 신제품은 크게 4가지로 CP(이온밀러)가 통합되어 자동화가 용이하고 외부 개방 없이 시료를 관찰할 수 있어 시료의 변질이 되지 않는 CP-SEM, 전자현미경에서 필수적인 진공 상태가 필요하지 않고 대기에서 관찰 가능한 현미경인 Air-SEM, 저전압에서 높은 해상도를 제공할 수 있는 Tabletop용 FE-SEM, 초보자도 쉽게 전문가와 같은 좋은 이미지를 얻을 수 있는 인공지능 현미경인AI-SEM 등에 대한 지속적인 연구개발을 진행 중입니다.

한국개발연구원(KDI)의 보고서에 따르면 R&D 투자 규모가 10% 증가하면 기술사업화 성공 확률이 23%p 상승하는 것으로 분석되었습니다. 코셈의 지속적인 연구개발비 투자가 지속적인 제품 개발 및 상용화에 따른 성공으로 이어져 온 것 역시 이러한 분석을 뒷받침해 줍니다.

3. 연구개발 주요 성과

(1) 연구개발실적

코셈의 개발이 완료되었거나, 진행 중인 연구개발실적은 다음과 같습니다.

연구과제명지원기관연구기간연구결과 및
기대효과
상품화 내용
Normal SEM 기술 상용화 개발KRISS2007.06 ~ 2008.05- Normal SEM 상용화 기술 국산화 - 성능과 가성비를 기반으로 국내 판매 - 국산화를 통한 수입대체CX-100
Normal SEM업그레이드 기술 개발자체2009.06 ~ 2010.10- Normal SEM 기술 업그레이드 개발 - 자동 스테이지 - 성능과 가성비를 기반으로 국내 판매 - 국산화를 통한 수입대체 - 고성능 전자원 적용을 통한 국내외 시장 확대CX-200TA/TM
Tabletop SEM상용화 기술 개발자체2009.05 ~ 2012.07- Tabletop SEM 상용화 기술 국산화- 1단 CL을 적용한 10만배 이미지 구현- 사용자 편의성 NS4.0 GUI 구현- 국산화를 통한 수입대체EM-30
고분해능 Tabletop SEM 기술 개발자체 - Tabletop SEM 상용화 기술 국산화- 2단 CL을 적용한 15만배 이미지 구현- 중국을 중심한 해외 시장 개척EM-30P
차세대 Tabletop SEM 기술 개발자체2020.01 ~ 2022.12- 고속스캔(>13fps)을 위한 스캔기술 개발- 신규 프레임 및 스테이지 디자인- X, Y, Z축 자동화 스테이지 기술- 4분할 이미지 구현을 위한 GUI- 다중 사용자 기능/ 저장 이미지의 재측정 기능EM-40
이온밀러 결합전자현미경 기술NNFC2015.08 ~- 이온밀러와 전자현미경 통합 시스템 기술- 시료 이동을 위한 고정구조 기술- CP-SEM용 통합 GUI 개발- 이차전지 등의 산소에 민감한 분야 진출CP-SEM
대기압 전자현미경기술 개발KIST 전북대2015.07 ~- SiNx 박막 적용 진공격리 기술- He Gas 인가를 위한 시료구조 기술에 대한 영업비밀유지 계약위반 민사소송 고성능 스테이지 제어 기술- 바이오 및 대면적 시료(디스플레이, 반도체, PCB등) 분야 적용Air-SEM
인공지능 전자현미경기술KAIST2019.06 ~- 딥러닝을 이용한 자동초점 기술- 인공지능을 통한 전자현미경 자동화 운영 기술- 교육용 현미경 구현의 핵심 기술AI-SEM

(2) 정부과제 수행 실적

(단위: 백만원)

연구과제명주관부서연구기간정부출연금관련제품비고
분해능 성능 향상을 위한 고성능 신틸레이터 개발연구개발특구진흥재단2008.11.03. ~ 2009.10.30.40CX-100수행완료
초고진공환경하에서 방전을 방지하는 최적제어회로를 활용한 고압장치개발중소기업청2008.12.08. ~ 2009.11.30.70CX-100수행완료
나노전자공구 현미경 개발중소기업청2009.05.01. ~ 2011.04.30.485EM 시리즈수행완료
대기차단 시료이송장치 및 in-situ SEM 상용기술 개발과학기술정보통신부2021.04.01. ~ 2023.12.31.330CP-10K진행중
원자현미경과 전자현미경/대기압전자현미경을 결합한 장비 개발산업통상자원부2021.12.01. ~ 2024.11.30150TT-AirSEM진행중
실시간 모드를 지원하는 SEM-EDS 통합 SCAN 모듈 개발대전테크노파크2023.07.01. ~ 2024.06.30.100EDS진행중

한국과학기술계획평가원(KISTEP)의 보고서에 따르면 정부과제를 성공적으로 수행한 기업들은 기술력이 높은 것으로 나타났습니다. 특히 중소기업의 경우 기술력 강화에 따라 특허 출원 건수 32% 증가, 기술이전 수익률 18% 상승 등의 효과를 나타냈습니다. 또한 한국산업기술진흥원(KEIT)의 사례 분석 결과 정부과제 수행 기업은 평균 4.2건의 신기술 개발과 12억 원의 매출 증대 효과를 달성했습니다.

또한 A등급 기술평가 기업의 대부분이 정부과제 수행 경험을 보유한 점은 정부 지원이 기술 역량 강화 및 기업의 기술력 평가에 기여함을 보여줍니다.

(3) 지식재산권 보유 내역

[지식재산권 소유 현황]

구분국내등록해외등록국내출원해외출원합계
특허28-6337
디자인3-1-4
상표61-310

[지식재산권 소유 내역]

국내특허

번호명칭권리자출원일등록일주무관청
1전자빔을 이용한 데이터 기록장치 및 전자빔을 이용한 데이터 기록방법㈜코셈2008.10.022009.11.13대한민국
특허청
2전자현미경㈜코셈2008.03.052009.12.11대한민국
특허청
3주사전자현미경의 자유배율 조정방법㈜코셈2010.12.142012.06.07대한민국
특허청
32Air SEM의 멤브레인 박막 교체/이동 시기 결정 방법 및 Air SEM 멤브레인 박막의 교체/이동 시기 자동 통지 시스템㈜코셈2022.04.14-대한민국
특허청
33칼라 전자현미경, 및 그 작동 방법㈜코셈2023.09.05-대한민국
특허청
34다중창 박막을 이용한 대기압 전자현미경㈜코셈2023.12.15-대한민국
특허청

해외특허

번호명칭권리자출원일적용제품주무관청
1착탈 가능한 컬럼을 구비하는 주사 전자 현미경 및 이를 이용한 영상 획득 방법㈜코셈2020.02.27COM-SEM세계지식재산권기구
2인공지능학습 데이터를 활용한 전자현미경㈜코셈2020.04.13AI-SEM세계지식재산권기구
3주사전자현미경의 착탈가능한 컬럼유닛, 및 그 제공방법㈜코셈2023.10.24Air-SEM중국

디자인

번호명칭권리자출원일등록일적용제품주무관청
1디자인등록증(표딱지)㈜코셈2008.02.112008.09.25코셈 로고대한민국
특허청
2디자인등록증(전자현미경)㈜코셈2011.10.102013.03.07SPT20대한민국
특허청
3디자인등록증(전자현미경)㈜코셈2013.11.292014.10.29EM10대한민국
특허청
4디자인등록증(전자현미경)㈜코셈2020.09.29--대한민국
특허청

국내상표

번호명칭권리자출원일등록일적용제품주무관청
1COXEM㈜코셈2020.10.212022.07.22-대한민국
특허청
2CX-300㈜코셈2020.10.212022.03.16CX-300대한민국
특허청
3EM-30㈜코셈2020.10.212022.03.16EM-30대한민국
특허청
4SELPA㈜코셈2020.10.212022.03.16SELPA대한민국
특허청
5CP-8000㈜코셈2020.10.212022.04.21CP-8000대한민국
특허청
6COXEM(제9류)㈜코셈2022.01.102023.11.01-대한민국
특허청

해외상표

번호명칭권리자출원일등록일적용제품출원국
1COXEM㈜코셈2023.06.13--미국
2COXEM㈜코셈2023.06.142023.10.27-영국
3COXEM㈜코셈2023.06.14--유럽
4COXEM㈜코셈2023.06.12--일본

특허권은 연구개발 활동의 중요한 결과물이자 성과 지표로 간주됩니다. 특허 출원 및 등록 건수는 연구개발의 기술적 성과를 측정하는 핵심 지표 중 하나입니다. 여러 연구 결과에 따르면 기업의 특허성과는 연구개발 및 기술혁신과 양의 관계를 가지고, 기업성과는 특허성과 및 연구개발강도와 양의 관계를 가지는 것으로 확인되었습니다. 즉, 높은 특허강도와 연구개발강도를 보이는 기업일수록 높은 기업성과를 향유하고 있음을 알 수 있습니다. (한국기술혁신학회, 기술혁신학회지 9권 1호, 박선영 등)

코셈은 고유의 SEM 설계 및 제작을 위한 기반 기술을 보유하여 기술 내재화를 완료하고 이를 바탕으로 국내 최초의 SEM을 출시하여 상용화 시킬 수 있었습니다. 또한 코셈은 특히 경쟁사의 정보유출 방지와 후발업체의 시장진입 방지를 위해 모든 핵심 기술을 특허로 등록하는 기술보호 전략을 실시하고 있습니다. 이러한 전략에 따라 그 동안 총 37건의 특허(28개 등록, 9개 출원)과 4건의 디자인권(3개 등록, 1개 출원), 10건의 상표권(7개 등록, 3개 출원)을 보유하고 있습니다. 이와 같이 코셈은 연구개발의 성과를 특허권으로 입증하는 한편 자체 개발한 기술을 특허로 두텁게 보호하고 있는 것을 볼 수 있습니다.

(4) 주요연구개발 제품 및 계획

주요 연구개발 제품

구분제품군제품명진행현황제품범위
주사전자 현미경Tabletop SEM (EM 시리즈)EM-30, EM-30P, EM-30N, EM-30AX, EM-30AXP, EM-30AXN판매중-Entry Level 전자현미경으로 보다 쉽고 간편하게 사용할 목적으로 제작된 제품 -최근 품질관리, 생산관리 목적으로 수요 증가 -Normal SEM이 가지는 높은 성능과 다양한 주변기기 요구가 늘어나는 추세
EM-40판매중
EMF (FE-SEM)개발중
Normal SEM (CX 시리즈)CX-200P판매중-일반적인 전자현미경으로도 높은 배율과 여러 가지 주변기기(EDS, EBSD, WDS등)를 이용하여 다양한 시료를 분석할 수 있는 제품
CX-200K개발중
CX-300개발중
CXF (FE-SEM)개발중
융복합 SEMCP-SEM개발중-CP와 SEM을 통합하여 배터리, MLCC와 같이 산소나 습기에 민감한 샘플을 대기노출없이 식각하고 이미지를 획득할 수 있는 제품
AIR-SEM개발중-시료가 대기중에 위치하여 수분을 가진 바이오 시료를 공기중에서 관찰하거나 광학현미경과 같이 진공없이 편리하게 관찰할 수 있는 제품
전처리 장비이온밀러CP-8000, CP-8000+판매중-시료전처리 시스템 -이온빔으로 시료의 단면과 표면을 식각하여 평탄하게 하여 SEM에서 더 좋은 이미지를 얻을 수 있도록 함 -MLCC, 배터리에서 수요가 급증
CP-10K개발중
이온코터SPT-20판매중-시료전처리 시스템 -시료 표면에 Au, Pt등을 코팅하여 SEM에서 좋은 이미지를 얻을 수 있도록 함 -전자현미경 필수 장비

향후 연구개발 계획

제품개발 예정 기술
CP-SEM1)SEM과 CP의 챔버 통합 기술 2)CP 모듈로부터 유입되는 진동노이즈 차단기술 3)CP 식각으로 인한 챔버오염 방지기술 4)SEM과 CP의 통합 운용 소프트웨어 기술
Air-SEM1)기압차와 전자빔에 대한 내구성과 전자투과율이 향상된 멤브레인 박막 기술 2)진공파괴시 시스템 보호 장치 기술 3)Air-SEM 특성으로 인한 전자산란 현상의 노이즈 이미지 보정 기술
Tabletop FE-SEM1)FE-gun 제작 및 안정화 기술 2)저잡음 회로 설계 기술 3)초고진공 시스템 설계 및 제어 기술
AI-SEM1)딥러닝 학습인자 및 제어인자의 고도화를 통한 알고리즘 성능향상 기술 2)고분해능 스테이치 위치 제어 기술 3)이미지 정확도 확보를 위한 시스템 보정 기술

코셈의 주력사업은 전자현미경에 기초한 사업으로 기초과학 기술을 근간으로 공학기술이 결합된 기술집약적인 사업이라는 특성을 가지고 있습니다.

이런 특징으로 인하여 기술 선진국인 미국, 독일, 일본, 영국 중심으로 상용화가 진행되었고, 기술적으로 성숙된 기업들만 참여할 수 있어 많은 연구개발비가 소요되고 있으며, 이러한 연구개발비를 감당할 수 있는 글로벌 대기업이 시장을 독과점하고 있어 진입장벽이 매우 높습니다.

이에 따라 지속적인 제품 및 기술에 대한 연구개발이 시장에서의 성공 및 그에 따른 기술특례상장에서의 높은 평가의 키가 될 수 있다는 점을 볼 수 있습니다.

4. 소결

기술특례상장 제도는 혁신적인 기술력을 가진 기업들에게 자본 시장 진입의 기회를 제공하는 중요한 메커니즘입니다. 이 제도를 통해 우리는 연구개발 능력이 기업의 성공과 지속 가능한 성장에 얼마나 핵심적인 요소인지 명확히 볼 수 있었습니다.

연구개발에 지속적으로 투자하고 혁신을 추구하는 기업들은 시장에서 더 높은 평가를 받고 있으며, 이는 투자자들이 기술력과 미래 성장 잠재력을 중요하게 여긴다는 점을 시사합니다. 따라서 기술특례상장을 준비하는 기업들은 단순히 재무적 성과에만 집중하는 것이 아니라, 지속적인 연구개발 투자와 혁신 역량 강화에 주력해야 합니다.

코셈은 SEM및 주변 기기들의 개발 및 생산을 위한 핵심 기술을 보유하고 있으며, 이를 특허로 보호하여 기술적 진입 장벽을 구축했습니다. 뿐만 아니라, 독자적인 기술과 특허를 통해 회사의 가치를 높이고 국내 주요 기업들과의 협력 관계를 구축하는 데에 성공할 수 있었습니다. 또한 이러한 기술 개발과 특허 등록 등을 통해 이차전지 시장 등 신규 시장 진출 가능성을 높이고 성장 잠재력을 인정받아 주식시장 상장에 이를 수 있었습니다.

이렇듯 혁신적인 기술 개발과 특허 등록은 회사의 지속적인 성장과 주식시장 상장에 긍정적인 영향을 줄 수 있으며, 향후에도 시장에서의 경쟁력을 유지하는 데 중요한 역할을 할 수 있는 것을 볼 수 있습니다.

안녕하세요 진솔국제특허법률사무소입니다.

기업이 공공기관에 제품을 납품하는 과정에서 우수조달물품 인증은 중요한 도약 기회를 제공합니다. 우수조달물품 인증제도를 통해 기업은 제품의 품질을 공적으로 입증하고, 공공부문에서 우선적으로 구매될 수 있는 기회를 얻습니다. 또한, 공공기관과의 안정적인 거래를 통해 시장에서의 신뢰성을 확보하고, 더욱 경쟁력 있는 브랜드 이미지를 구축할 수 있습니다.

우수조달물품 인증을 받으면, 제품이 공공기관의 구매 과정에서 선호되고, 이를 바탕으로 기업은 시장에서 더 넓은 판로를 개척할 수 있는 기회를 가질 수 있습니다. 특히 우수조달물품 인증은 기업의 품질 경쟁력을 공식적으로 입증할 수 있는 수단으로, 민간 부문에서도 신뢰를 얻는데 도움이 됩니다.

이번 5월 뉴스레터에서는 우수조달물품 인증 제도에 대해 자세히 알아보겠습니다. 우수조달물품 인증을 통해 공공부문에서 인정받고, 더 넓은 시장으로 확장할 수 있는 방법을 확인해 보세요.

1. 우수조달물품 제도란?

중소기업이 직접 제조한 기술력과 품질, 성능이 우수한 제품의 공공판로를 지원하고 기술 개발을 견인하기 위한 제도

2. 우수조달물품 신청자격은?

1. 제조품을 직접 제조하는 ‘중소기업’ 또는 ‘초기 중견기업

2. 모든 신청자는 제품의 직접 생산에 대한 증빙서류를 제출하여야 함

*중소기업간 경쟁제품의 경우 중기부가 발급하는 ‘직접생산확인증명서’가 필수이며, 일반제조물품의 경우 공장등록증과 제조공정표를 제출하여야 함

3. 단, 제조시설이 없는 기술보유기업은 제조기업과 ‘협업체’를 구성하여 우수제품을 신청할 수 있음

3. 우수조달물품 신청대상은?

중소·벤처기업이 생산하는 물품과 소프트웨어 중에서 지정

1. 신제품(NEP) 또는 신제품(NEP)을 포함한 제품(3년 이내)

2. 신기술(NET)이 적용된 제품(3년 이내)

3. 특허(7년) 또는 등록실용신안(3년)이 적용된 제품

4. 저작권 등록된 우수품질 S/W 인증제품(GS)

5. 연구개발 사업 추진 기관장과 조달청장이 공동 시행한 R&D 사업 성공 제품

6. 조달청장이 구매하여 실증 결과 성공으로 판정한 혁신제품(3년 이내)

4. 우수조달물품 지정 절차는?

(1차 심사) 우수제품 지정기술심의회가 기술・품질 심사 수행 

(실태조사) 생산설비 등 직접 생산 능력 보유 여부, 직접생산 위반 의혹이 짙은 업체에 대해 선별 조사

(2차 심사) 1차 심사 통과제품을 대상으로 조달품목 타당성, 계약관리 용이성 등을 종합적으로 심사하여 지정여부를 결정

5. 1차 심사 심사항목은?

평가자심사항목성장유망제품일반제품가구제품
심사위원기술 심사70점60점50점
디자인 심사해당사항 없음해당사항없음20점
품질 심사30점40점30점
기술품질 가점3점3점3점
기술품질 감점-3점-3점-3점
조달청신인도 심사3점3점3점

*성장유망제품: 드론, 초소형 승용전기차, 태양광발전장치, 건물일체형태양광발전장치, 지열히트펌프 외 10종

전체 평점 결과 70점 이상인 경우 심사 통과

6. 우수조달물품 구비서류는?

중소기업확인서, 경쟁입찰참가자격등록증, 기술소명자료, 품질소명자료 등 19개의 제출 서류를 구비

  1. 중소기업 확인서
  2. 경쟁입찰참가자격등록증
  3. 신용평가등급확인서
  4. 기술소명자료
  5. 품질소명자료
  6. 관련 법령에 따른 형식등록, 안전인증, 전자파적합 등록 또는 인증서 사본
  7. 외국산 부품 사용 관련 확약서
  8. 신청모델 (규격) 내역
  9. 제품설명서
  10. 구성대비표
  11. 제품규격서
  12. 기술·성능 비교표
  13. 약정서, 기술적용확인표
  14. 해외 진출실적에 대한 증빙서류
  15. 신인도심사서에 대한 증빙서류
  16. 별표 5 서식에 따른 증빙서류 (연장기간평가 기업에 한해 제출)
  17. 제출서류의 자가점검표
  18. 사적이해관계자 신고 서약서
  19. 기술이력서

7. 우수조달물품 지정기간은?

지정일로부터 3년이며. 최대 3년의 범위 내에서 연장 가능

지정일은 계약심사협의회에서 정한 날 또는 계약심사협의회에서 정한 날로부터 60일, 90일 120일, 150일, 180일 중 우수제품 지정을 받은 기업이 원하는 날 가능

8. 우수조달물품 인증혜택은?

금액의 제한이 없는 수의계약 체결

중소기업 기술개발제품 의무구매대상

수요기관의 고의·중과실이 입증되지 않는 경우 구매면책 대상

제3자 단가계약 체결 시 나라장터 종합쇼핑몰 내 ‘우수조달물품 인증몰’에 등록

9. 우수조달물품을 위한 준비

우수조달물품은 공공조달 시장에서 기업의 경쟁력을 입증하는 중요한 지표로, 선정 과정에서 높은 기술적 요구와 엄격한 품질 기준을 충족해야 합니다. 먼저 신청 요건으로 기술 인증과 품질 인증을 사전에 갖추어야 하며, 이는 우수조달물품 신청 자격을 위한 필수 요건입니다. 이러한 인증 절차는 복잡하여, 체계적인 준비 없이는 달성하기 어려운 과제입니다.

또한, 인증 심사 과정에서 기업의 발표가 결정적인 역할을 합니다. 발표 내용의 명확성, 제품의 기술적 우수성, 공공 시장에서의 가치 등이 설득력 있게 전달되어야 인증 가능성이 높아지기 때문에, 심사를 위한 발표 준비는 인증 획득의 핵심 요소로 볼 수 있습니다.

진솔국제특허법률사무소는 이와 같은 복잡한 준비 과정을 전문적으로 지원하여 기업이 인증 요건을 체계적으로 충족하고, 성공적인 발표를 통해 인증 가능성을 높일 수 있도록 맞춤형 컨설팅을 제공합니다.

🎖 키프리스 이용실태 및 만족도조사 1등 수상!

지난 2024년 하반기 키프리스 이용실태 및 만족도조사에서 1등을 수상하였습니다!
이번 설문조사에서 높은 점수를 받아 배달의민족 5만원 상품권을 받았고, 이를 직원들과 함께 마카롱을 주문해 나누어 먹으며 기쁨을 나눴습니다.

진솔이 제안한 의견이 반영되다!
설문조사에서 다음과 같은 개선 의견을 제시했습니다.
✅ 검색어 확장 기능 개선
국내·외 통합검색 기능 적용 (반영됨 ✅ )
✅ 초보자를 위한 검색 기능 개선

그중 국내·외 통합검색 기능이 실제로 반영되어 키프리스 이용이 한층 편리해졌습니다!
이처럼 이용자의 의견이 서비스 개선에 직접 반영된다는 점에서 큰 의미가 있습니다.

📸 [사진1] 키프리스 1등 인증샷

📸 [사진2] 직원들과 함께 나눈 마카롱 / 마카롱 주문 내역

키프리스 개편! 더 쉽고 편리하게!

1. 국내·외 통합검색 적용

국내 정보와 해외 정보를 별도로 검색할 필요 없이 한 번의 검색으로 모두 확인할 수 있습니다.
메뉴 체계도 단순화되어 더 직관적이고 효율적인 검색이 가능합니다!

2. 반응형 웹* 기술 적용(*디스플레이 종류에 따라 화면의 크기가 자동으로 최적화되는 기술)

PC, 태블릿, 스마트폰 어떤 기기에서도 동일한 검색 환경을 제공합니다.
어디서든 최적화된 화면을 경험할 수 있습니다.

[사진= 키프리스 PC 버전]

[사진= 키프리스 모바일 버전]

3. 최신 디자인 트렌드 반영

✔ 깔끔하고 직관적인 검색 화면
✔ 불필요한 팝업창 제거 & 2단 검색 결과 화면 적용
✔ 국문·영문 홈페이지 통합 & 언어 전환 기능 추가

4. 검색 결과 통계 시각화 기능 추가

✔ 표, 도표, 그래프 형태로 주요 통계 제공
✔ 해외 상표 및 디자인 정보까지 통계 제공 확대

키프리스 개편으로 더욱 편리해진 검색 환경!

이번 개편을 통해 누구나 손쉽게 지식재산 정보를 검색하고 활용할 수 있는 환경이 조성되었습니다.
앞으로도 키프리스가 더 발전할 수 있도록 적극적인 의견을 개진하며, 특허 검색 환경 개선에 기여하겠습니다.

진솔국제특허법률사무소는 앞으로도 고객 여러분의 지식재산 활용을 지원하며, 보다 나은 서비스를 제공하기 위해 노력하겠습니다.

[사진 = 에이텀 IR book]

I. 에이텀 회사 개요 및 연구개발 조직 구성

1. 에이텀

1) 에이텀은 특화된 평판형 트랜스포머(이하 트랜스) 핵심 기술을 기반으로 소형화, 고효율, 고출력 트랜스 및 핵심 부품을 제조하고 그와 관련된 종합 솔루션을 제공하는 기업입니다. 현재는 휴대용 전자기기 충전기(TA)와 TV용도의 트랜스를 생산 중이며, 최근에는 전기자동차 (EV) 및 전기자동차(EV) 충전기 시장으로의 진출을 앞두고 있습니다.

2) 주요 매출처: 에이텀의 주요 매출처로는 휴대용 전자기기 충전기(TA) 부문에 솔루엠, RFT 등이 있으며, TV부분에는 LG이노텍과 와이투솔루션 등이 있습니다.

3) 자회사: 에이텀의 자회사인 에이텀 비나법인은 트랜스 관련 생산법인이고, 칸타텀은 MLCC 유통을 영위하는 회사로서 영업과 관련하여 지배회사 에이텀 및 에이텀 베트남법인과 내부거래가 없습니다.

2. 평판형 트랜스포머 시장의 특징

평판형 트랜스포머 시장은 최근 급속한 성장세를 보이고 있으며, 향후에도 지속적인 확대가 예상됩니다. 

시장 성장의 요인으로는 기술적 우위, 산업 수요 증가 및 전기차 시장 확대 등을 들 수 있습니다. 평판형 트랜스포머는 기존의 권선형 방식에 비해 고효율, 저발열, 내습성, 내구도 측면에서 강점을 보이며, 전자기기의 안정성을 높이는 데 기여하고 있습니다. 또한, 스마트폰, TV 등 전자기기의 슬림화 추세와 함께 안정적인 고속 충전에 대한 수요가 증가하고 있어 평판형 트랜스의 수요도 함께 늘어나고 있습니다. 뿐만 아니라, 전기자동차 산업의 급속한 성장으로 인해 평판형 트랜스포머의 수요가 크게 증가할 것으로 예상되고 있습니다.

이로 인해 글로벌 스마트 트랜스포머 시장은 2030년까지 연평균 10.9% 성장하여 약 6조7798억원 규모로 확대될 것으로 전망되고 있습니다.

3. 에이텀 연구개발 조직

1) 개요

에이텀은 전체 임직원 28명 중 12명, 즉 42.9%에 달하는 인력을 연구소에 배치하고 있습니다. 이는 거의 절반에 가까운 인력이 연구개발에 집중하고 있음을 의미합니다. 이러한 높은 비율의 연구 인력 배치는 당사가 혁신과 기술 발전을 최우선 과제로 삼고 있다는 점을 분명히 보여줍니다.

또한 연구소는 단순히 인원수만 많은 것이 아니라, 전기/전자 분야에서 오랜 경험을 쌓은 전문가들을 중심으로 운영되고 있습니다. 이는 에이텀이 연구개발의 질적 수준을 높이는 데에도 심혈을 기울이고 있음을 나타냅니다. 경험 많은 전문가들의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발과 효율적인 문제 해결에 큰 도움이 됩니다.

이러한 인력 구성은 에이텀이 단기적인 이익보다는 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다. 연구개발에 대한 과감한 투자는 회사의 미래 성장 동력을 확보하고, 시장에서의 선도적 위치를 유지하려는 비전과 전략을 반영합니다.

2) 연구개발 조직

3) 연구개발 인력 확보 및 유지 방안

에이텀은 연구개발 인력의 확보와 유지를 위해 다각도의 노력을 기울이고 있습니다. 특히 주식매수선택권(스톡옵션) 제도를 통해 임직원들에게 회사의 성장에 따른 보상을 제공하고 있습니다. 이는 단순히 금전적 보상을 넘어 회사의 성과와 개인의 이익을 연동시켜 임직원들의 충성도를 높이고 장기적인 동기부여를 하는 효과적인 방안입니다.

에이텀은 이러한 노력에도 불구하고 인력 이탈의 위험성을 인지하고 있습니다. 핵심 인력의 이탈은 연구개발의 지연 등 회사의 사업에 부정적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 지속적으로 인력 관리 전략을 개선하고 있습니다. 또한, 핵심 기술과 노하우의 분산 관리, 지식 관리 시스템 구축 등을 통해 개인 의존도를 낮추는 노력도 병행하고 있습니다.

에이텀의 이러한 종합적인 접근은 연구개발 인력의 안정적인 확보와 유지에 기여하고 있으며, 이는 회사의 지속적인 혁신과 성장의 핵심 동력이 되고 있습니다.

II. 연구개발 비용

(단위: 백만원)

구분제8기제7기제6기
자산처리---
비용처리제조원가---
판관비494597439
합계494597439
(매출액 대비 %)3%3%4%

과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP)의 연례 연구개발활동 조사에 따르면 한국의 기업 부문 매출액 대비 연구개발비 비중은 3.64%에 달합니다. 에이텀은 3~4% 정도의 연구개발비를 지출하고 있어 평이한 수준으로 볼 수 있습니다.

III. 연구개발 주요 성과

1. 연구개발실적

에이텀의 개발이 완료되었거나, 진행 중인 연구개발실적은 다음과 같습니다.

모델개발일정연구기관성과내용
TA 15W 트랜스 PPC 타입2019.2~2020.4 2020.5 양산에이텀상용화몰딩코일과 적층코일이 적용된 15W PPC 타입으로 납품 中
TA 25W 트랜스 PPP 타입2020.1~2020.6 2020.7 양산에이텀상용화몰딩코일이 적용된 15W PPP 타입으로 납품 中
TA 25W트랜스 PSPC 타입2020.7~2020.11 2020.1 양산에이텀, 삼성전자상용화적층코일이 적용된 25W PSPC 타입으로 납품 中
TA 45W 트랜스 PPP 타입2020.12~2021.9 2021.11 양산에이텀, 삼성전자상용화몰딩코일이 적용된 45W PPP 타입으로 납품 中
TA 65W 트랜스 PPP 타입2021.1~2021.6에이텀선행개발몰딩코일이 적용된 65W PPP 타입으로 선행개발
TA 25W/45W/65W 트랜스 PPC 타입2023.06~현재에이텀선행개발몰딩코일과 적층코일이 적용된 고출력 용도의 PPC 타입으로 선행개발
TV PFC 트랜스2021.4~2022.11 2021.11 양산에이텀상용화TV용 트랜스 개발, 납품 중
EV전기차용 트랜스2022.1~현재에이텀개발중EV부품 시장 진출을 위해 개발, 개발 완료를 위한 테스트 단계
EV전기차 충전기용 트랜스2022.10~현재에이텀개발중EV부품 시장 진출을 위해 개발, 개발 완료를 위한 테스트 단계

2. 지적재산권 보유 내역

<국내특허>

순번명칭출원일출원번호등록일등록번호
1평면 코일을 사용하는 전자 소자 및 그를 사용하는 변압기2015.06.1610-2015- 00851562016.05.1210-1622333
2변압기용 2열 평판형 코일 어셈블리 및 이를 이용한 변압기용 평판형 코일 소자의 제조 방법2018.05.2810-2018- 00607582022.04.2910-2394410
3변압기용 평판형 코일 소자의 자동 제조 장치2018.05.2810-2018- 00607602022.04.2910-2394415
44전기자동차의 LDC용 변압기2023.07.2710-2023- 0098536--
45공진 인덕터 일체형 변압기 모듈2023.09.0510-2023- 0117928--
46[전용실시권]코일 부품용 판형 코일 및 코일 부품 제조 방법2016.07.0410-2016- 00839562016.09.2610-1661590

<디자인>

순번명칭출원일출원번호등록일등록번호
1변압기용 코일소자2018.08.1830-2018-00383732019.04.2230-1004078
2변압기용 코일2017.03.2130-2017-0013126 (1-1-2017-0281175-28)2017.09.1930-0924498
3변압기용 코일2017.03.2130-2017-0013127 (1-1-2017-0281179-11)2017.09.1930-0924499
4변압기용 코일2017.06.2730-2017-0029521 (1-1-2017-0616296-13)2018.02.2830-0946856
5변압기용 코일소자2020.01.1030-2020-00012362021.03.3130-1103186
6변압기용 코일2022.11.0130-2022-0044724--
7변압기용 코일2022.11.0130-2022-00447262023.07.1730-1224874

<해외특허>

국가번호명칭출원일출원번호등록일등록번호
중국1평면변압기2020.03.03202010139221.2--
11전기자동차 LDC용 변압기2023.01.12202310041820.4--
미국1A TRANSFORMER2019.11.27No. 16/697,9142023.09.06등록번호 대기
2TRANSFORMER FOR OBC OF ELECTRIC VEHICLE2023.01.09No. 18/094504--
3TRANSFORMER FOR LDC OF ELECTRIC VEHICLE2023.01.09No. 18/094,516--
베트남1TRANSFORMER2020.04.191-2018-01685--

특허권은 연구개발 활동의 중요한 결과물이자 성과 지표로 간주됩니다. 특허 출원 및 등록 건수는 연구개발의 기술적 성과를 측정하는 핵심 지표 중 하나입니다. 여러 연구 결과에 따르면 기업의 특허성과는 연구개발 및 기술혁신과 양의 관계를 가지고, 기업성과는 특허성과 및 연구개발강도와 양의 관계를 가지는 것으로 확인되었습니다. 즉, 높은 특허강도와 연구개발강도를 보이는 기업일수록 높은 기업성과를 향유하고 있음을 알 수 있습니다. (한국기술혁신학회, 기술혁신학회지 9권 1호, 박선영 등)
에이텀도 연구개발의 성과를 특허권으로 입증하는 한편 자체 개발한 기술을 특허로 두텁게 보호하고 있는 것을 볼 수 있습니다.

2. 주요연구개발 실적 및 계획

에이텀은 기존의 권선형 트랜스를 대체하는 평판형 트랜스 기술을 개발하여 판매 중에 있습니다. 에이텀의 평판형 기술은 경쟁사 대비 부피 감소, 낮은 발열 온도, 향상된 안정성 등의 장점을 제공합니다.

또한 에이텀은 2020년부터 삼성전자의 1차 벤더로 선정되어 모바일 충전기용 트랜스 제품을 삼성전자와 공동 개발하고, 15W를 시작으로 25W, 45W제품까지 개발 및 공급하고 있습니다. 2021년에는 LG이노텍의 벤더가 되어 TV용 트랜스 제품을 개발 완료하고 공급하기 시작했습니다. 이를 통해 에이텀은 가전 분야로 사업 영역을 확대할 수 있었습니다.

최근에는 전기차용 부품 및 충전기 시장 진출을 위해 연구개발을 진행하고 테스트를 시작하는 한편, 전기차용 트랜스 신제품 생산을 위한 설비를 증설하고 있습니다.

IV. 소결

기술특례상장 제도는 혁신적인 기술력을 가진 기업들에게 자본 시장 진입의 기회를 제공하는 중요한 메커니즘입니다. 이 제도를 통해 우리는 연구개발능력이 기업의 성공과 지속 가능한 성장에 얼마나 핵심적인 요소인지 명확히 볼 수 있었습니다.

연구개발에 지속적으로 투자하고 혁신을 추구하는 기업들은 시장에서 더 높은 평가를 받고 있으며, 이는 투자자들이 기술력과 미래 성장 잠재력을 중요하게 여긴다는 점을 시사합니다. 따라서 기술특례상장을 준비하는 기업들은 단순히 재무적 성과에만 집중하는 것이 아니라, 지속적인 연구개발 투자와 혁신 역량 강화에 주력해야 합니다.

에이텀은 2차 몰딩 코일 기술, 1차 적층 코일 기술, 브릿지 공정 기술, 직렬 프레스 공정 기술 등의 4가지 핵심 기술을 보유하고 있으며, 이를 특허로 보호하여 기술적 진입 장벽을 구축했습니다. 뿐만 아니라, 독자적인 기술과 특허를 통해 회사의 가치를 높이고 국내 주요 기업들과의 협력 관계를 구축하는 데에 성공할 수 있었습니다. 또한 이러한 기술 개발과 특허 등록 등을 통해 전기차 시장 등 신규 시장 진출 가능성을 높이고 성장 잠재력을 인정받아 주식시장 상장에 이를 수 있었습니다.

이렇듯 혁신적인 기술 개발과 특허 등록은 회사의 지속적인 성장과 주식시장 상장에 긍정적인 영향을 줄 수 있으며, 향후에도 시장에서의 경쟁력을 유지하는 데 중요한 역할을 할 수 있는 것을 볼 수 있습니다.

당사가 보유한 핵심기술은 기존 권선형 트랜스의 구조와 생산성의 한계를 극복하고 슬림 고성능 충전 플랫폼 적용에 유리한 평판형 변압기에 관련된 것으로서, 변압기 내부 중요 부품인 코일에 대한 구조와 제조/양산/공정 관련 원천 기술입니다.

당사가 보유한 핵심기술은 4가지로 요약할 수 있으며, 각 기술들은 특허를 통해 진입 장벽을 구축하였습니다. 핵심기술 두 가지는 2차 몰딩 코일 기술과 1차 적층 코일 기술이며, 다른 두 가지 기술은 2차 몰딩코일을 생산하는 공정에 필수적으로 필요한 브릿지 공정과 직렬 프레스 공정에 관한 기술입니다.

2차 몰딩 코일 기술은 기존 코일 와인딩에서 요구되는 수작업을 동사가 개발한 프레스 및 사출 성형방식을 통해 최소화함으로서 수작업에 의해 발생될 수 있는 품질 불균형 문제 저감, 수율 향상이 가능하게 한 기술입니다. 또한 1차 적층 코일 기술로 기존 일반 권선형 대비 누 설 인덕턴스와 EMI 산포를 개선, 효율 등의 품질을 확보하였고, 설계 다변화가 가능해지고 제품의 제작기간을 단축할 수 있게 되면서 PCB 코일을 대체하여 최종 제품의 원가가 절감되었고 부피도 감소되었습니다.

2차 몰딩 코일을 생산하는 공정 특허의 내용은 공정에 브릿지 공정을 도입하여 양산 시 불량률을 크게 낮춘 기술과, 직렬프레스 공정을 도입하여 병렬 방식을 직렬 방식으로 전환하여 제품의 높이, 발열, 누설 전류를 감소시키는 기술입니다.

당사의 전력용 트랜스포머는 트랜스포머의 주요한 성능으로 평가하는 EMI, 발열, 효율, 단면적에서 기존 경쟁사 대비 우위에 있는 경쟁력 있는 기술 수준을 보유하고 있습니다. 당사는 평판형 트랜스 포머 개발을 통해, 기존에 사용되던 권선형 트랜스포머와 비교시 우수한 성능을 보이고 있습니다. 현재 트랜스포머 시장은 제품의 소형화, 슬림화와 동시에 안정성 수요가 크게 증가하여, 기존의 권선형 트랜스포머를 대체하는 신규 제품의 수요가 증가하고 있는 시장입니다. 이에 따라 국내에선 당 사가 유일하게 평판형 트랜스포머를 개발, 제조하고 있지만, 기존의 업체도 더 적극적으로 기술 및 제품 개발에 투자할 수 있으며, 또 추가적으로 새로운 신규기업들이 새로운 트랜스포머 구조를 기반으로 시장에 적극적으로 진입할 가능성이 있습니다. 이에 따라 경쟁과열로 인하여 가격경쟁이 이루어질 수 있습니다. 이 경우, 당사의 매출 및 수익이 악화될 위험이 존재합니다. 투자자께서는 이점 유의하시기 바랍니다.

트랜스포머 제품은 가전·전기전자 필수 핵심부품이나, 지난 80여년간 노동집약적인 권선형 모델에서 벗어나지 못했으며, 한국기업은 값싼 노동력을 기반으로 한 해외기업과의 가격 경쟁력에서 뒤쳐졌습니다. 또한 휴대폰(스마트폰), 테블릿, 노트북 등 휴대용 전자기기의 고도 화에 따른 고용량 고출력 충전용 트랜스의 수요를 충족하지 못하면서 기술적인 한계에 직면 하였습니다. 또한, 전기차 시장의 확대로 전기차의 트랜스포머 부품을 위한 안정성 요구가 높아지며, 기존 권선형 트랜스포머에 대한 교체 수요가 증가하고 있습니다.

트랜스포머의 고도화에 따른 주요 요구 성능은 기본적인 전력 효율에 더불어, 발열, EMI 차폐, 단면적에 따른 SIZE가 있습니다.

당사는 자체적인 연구개발을 통해 얻어낸 성과로 2022년 초반부터 국내 주요 자동차 부품 기업들을 대상으로 당사 제품의 우수성을 알리고 있으며, 이를 통해 동사의 제품을 접한 기업들은 기술력을 인정하고 있습니다. 이에 국내 유력기업과 정규 협력업체 등록 직전 단계까지 협력 관계가 이뤄졌으며, 현재는 기술협력을 통해 얻어진 제품을 테스트하는 과정에 있습니다. 에이텀이 보유하고 있는 연구 개발 역량을 통해 빠르게 변화하는 전기차 전장 부품의 사양과 고객사의 제품 수정 요구 사항 반영이 실시간으로 가능하여 타 OEM 업체에 비해 높은 경쟁력을 보유하고 있습니다.

1. AI 특허 출원의 증가와 생성형 AI 특허 출원 현황

AI 기술의 발전 속도가 빨라지면서, 이를 보호하기 위한 특허 출원이 활발하게 이루어지고 있습니다. AI가 다양한 산업에 적용되면서 기업들은 기술적 우위를 확보하기 위해 지식 재산권을 적극적으로 관리하고 있으며, 국가 차원에서도 AI 기술 경쟁력을 높이기 위한 노력이 이어지고 있습니다.

세계지식 재산기구(WIPO)에 따르면 2023년까지 10년간 AI 관련 특허 출원 건수 상위 5개국은 중국, 미국, 한국, 일본, 인도 순이며, 그 중 생성형 AI에 관한 특허 수가 5만 4000여 건 정도이고, 전체의 약 70%인 3만 8000여건이 중국에서 출원된 것으로 밝혀졌습니다.

특히 생성형 AI(Generative AI) 분야는 최근 가장 주목받는 기술 중 하나로, 이에 대한 특허 출원도 급격히 증가하고 있습니다.생성형 AI는 텍스트, 이미지, 영상 등을 생성하는 기술로, ChatGPT와 같은 모델이 대표적인 예입니다. 이러한 기술이 상용화됨에 따라 관련 특허를 선점하기 위한 위한 글로벌 경쟁이 심화되고 있습니다.

이에 따라 기업들은 AI 기반 혁신을 보호하기 위해 특허 출원 전략을 강화하고 있으며 주요 국가 및 기업들은 AI관련 핵심 특허를 선점하기 위해 치열한 경쟁을 벌이고 있습니다. 특히, 중국의 대학 및 연구기관들이 생성형 AI 분야에서 가장 많은 특허를 보유하고 있으며, 한국에서도 한국과학기술원(KAIST)서울대학교가 AI 관련 연구 및 특허 출원에서 중요한 역할을 하고 있습니다.

기업 차원에서는 Google이 AI 특허 및 연구에서 다른 기업들보다 높은 순위를 차지하고 있으며, 이는 Google이 보유한 GPT 모델의 기초 기술인 Transformer 특허(US10,280,273 B2)와 같은 핵심 특허에 기인한 것으로 보입니다. 한편, OpenAI는 48개의 연구 논문을 게시하고, 11,816회의 인용을 기록하며 AI 연구 분야에서 높은 영향력을 보이고 있습니다. 과거 OpenAI는 연구 결과를 주로 공개하는 방식으로 접근했지만, 최근에는 AI 기술을 보호하기 위한 적극적인 특허 전략을 채택하고 있습니다.

2. AI 특허 시장의 주요 변화 – OpenAI의 특허에 대한 태도 변화

OpenAI는 자연어 처리(NLP) 모델의 핵심 기술인 Transformer 구조를 기반으로 GPT 시리즈를 발전시켜 왔으며, 이를 통해 AI가 인간과 자연스럽게 상호작용할 수 있도록 하는 기술을 완성해 나가고 있습니다. 이러한 기술적 혁신은 생성형 AI 특허 출원의 증가에도 큰 영향을 미쳤으며, OpenAI 역시 최근 AI 기술을 보호하기 위한 적극적인 특허 전략을 채택하고 있습니다.

과거 OpenAI는 연구 결과를 공개하는 오픈소스 접근 방식을 취했지만, AI 기술이 상업적으로 중요한 자산이 되면서 특허를 통해 기술을 보호하는 방향으로 전환하고 있습니다. 이에 따라 AI 특허 경쟁이 더욱 치열해지고 있으며, 특히 언어 모델을 기반으로 한 특허 출원이 활발하게 이루어지고 있습니다.

📌 OpenAI의 주요 특허 목록

① 언어 모델 기반 텍스트 생성 및 최적화

② 텍스트 기반 이미지 생성 및 편집

③ 멀티태스킹 음성 인식

④ 코드 생성 및 임베딩

OpenAI는 위와 같은 15개의 기초 특허를 기반으로, 현재까지 미국 내 22개의 특허를 공개하거나 등록한 상태입니다.

3. OpenAI의 특허전략 변화 – 기업들은 왜 OpenAI 특허를 내기 시작했을까?

OpenAI의 특허 전략 변화는 단순한 기술 보호 차원을 넘어, AI 시장에서의 경쟁 방어 수단으로 활용될 가능성이 큽니다.

결국, OpenAI는 AI 기술을 특허로 보호함으로써 독점적인 기술적 강점을 유지하고, AI 기술을 먼저 등록/공개하여 경쟁사들의 기술 독점을 막는 방어적 태도로 해석할 수 있습니다. 앞으로 OpenAI가 어떤 방향으로 AI 특허 전략을 확장해 나갈지 주목해야 할 시점입니다.

특허란 무엇인가? – 왕초보도 쉽게 이해하는 특허 가이드

📌 특허를 출원해야 할까?
📌 특허를 받으면 어떤 혜택이 있을까?
📌 특허, 실용신안, 상표는 어떻게 다를까?

👀 이런 고민을 하고 있다면, 이 글을 끝까지 읽어보세요!
오늘은 특허가 무엇인지, 왜 중요한지, 어떻게 출원하는지까지 한 번에 정리해드립니다.


🔹 1. 특허란? 쉽게 이해하는 개념

특허(Patent)는 새로운 기술이나 발명을 보호하는 법적 권리입니다.
즉, 내가 새롭게 개발한 기술이 다른 사람에게 무단으로 사용되지 않도록 보호해주는 제도죠.

한 줄 정의: 👉 특허 = "새로운 아이디어를 보호받는 공식적인 권리"

특허를 받으면?
✔ 내 기술을 법적으로 보호할 수 있음
✔ 다른 기업이 무단으로 사용하지 못하도록 방지
✔ 기술을 라이선싱(특허 판매)하여 수익 창출 가능

아이폰이 성공한 비결? 바로 강력한 특허 보호!

애플의 아이폰은 수많은 특허로 기술을 지키고 있습니다.

대표적인 특허 사례

✔ 스마트폰 UI를 혁신한 터치스크린 인터페이스 특허

✔ 화면을 밀어서 잠금을 해제하는 슬라이드 투 언락 특허

특허 덕분에 애플은 경쟁사가 쉽게 따라 하지 못하도록 보호할 수 있었습니다!

[사진=키프리스 애플 등록특허공보]


🔹 2. 특허 vs. 실용신안 vs. 상표의 차이

특허와 비슷한 개념들이 많아 헷갈릴 수 있습니다.
아래 표를 보면 쉽게 이해할 수 있어요!

[특허, 실용신안, 상표 차이 비교 표]

구분보호 대상예시보호 기간
특허새로운 기술, 발명AI 기반 음성 인식 기술20년
실용신안작은 개량 발명문 손잡이 개선 디자인10년
상표브랜드 이름, 로고"Nike" 로고갱신 가능

특허: 새로운 기술 보호
실용신안: 기존 제품의 개량 기술 보호
상표: 브랜드 보호


3. 특허를 받으면 어떤 혜택이 있을까?

특허를 받으면 단순히 기술을 보호하는 것 이상으로 비즈니스적으로 큰 이점이 있습니다.

1) 경쟁사와 차별화

2) 투자 유치에 유리

3) 특허 수익화 가능

라이선싱 특허사례: 퀄컴(Qualcomm)은 자사 특허를 삼성, 애플 등에 라이선스하여 연간 수조 원의 로열티 수익을 창출


4. 특허 출원 과정 – 쉽게 정리!

"특허 출원"은 생각보다 어렵지 않습니다.

아래 단계를 따라가면 누구나 출원이 가능합니다!

특허 출원 5단계

1) 선행기술 조사 → 기존 특허가 있는지 검색

2) 명세서 작성 → 특허청에 제출할 특허 출원서 및 명세서 작성

3) 출원 접수 → 특허청에 공식적으로 제출

4) 심사 및 보완 요청 → 특허청에서 심사 후 보완 요청 대응

5) 특허 등록 완료

특허 등록까지 걸리는 시간

👉 평균 1년 6개월 ~2년 정도 소요됨 (우선심사 시 빠르면 6개월, 늦으면 2년 이상도 가능)


5. 특허 출원 전 반드시 알아야 할 3가지

특허를 출원할 때 꼭 주의해야 할 사항이 있습니다.

1) 출원 전에 공개하면 안 된다!

2) 명세서 작성이 중요하다!

3) 특허를 받았다고 끝이 아니다!


6. 결론 – 특허는 사업의 무기가 된다!

오늘은 특허의 개념부터 출원 방법, 장점, 유의사항까지 알아봤습니다.

✔ 특허는 기술을 보호하는 강력한 무기
✔ 경쟁사와 차별화하고 수익 창출 가능
✔ 출원 과정이 어렵지 않으므로 미리 준비하는 것이 중요

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