2002년 창립 이래로, 진솔국제특허법률사무소는 기계, 전자, 화학, 의료, AI 및 소프트웨어 등 다양한 기술 분야에서 특허, 상표, 디자인 관련 소송 및 심판, 특허 침해 대응, 법률 자문, 대응 특허 개발, 지식재산권 기반 컨설팅, 그리고 국내외 출원 업무에 이르기까지 폭넓은 서비스를 제공하고 있습니다.
[출처:HVM IR Book]
1. 에이치브이엠 회사 개요 및 연구개발 조직 구성
(1) 에이치브이엠
① 회사 개요
에이치브이엠은 고청정 진공용해 기술을 기반으로 2003년도에 설립되어 지금까지 20년간 고객 요구에 부응하는 최상의 품질과 서비스를 제공하기 위해 꾸준한 연구개발과 양산 시스템 최적화 및 확대를 추구하는 첨단 금속 전문 제조기업입니다. 에이치브이엠은 최신 선진기술을 활용하여 고순도금속, 스퍼터링 타겟, Ni 계/Ti 계 특수 금속, 그리고 첨단 금속을 제조하고 있습니다. 2003년 창업 이후 진공 유도 용해로 (VIM)를 자체 설계 제작하여 고객 요구에 부응하는 제품을 선보이는 것으로부터 시작하였으며, 최근에는 진공 아크 재용해 (VAR), 플라즈마 아크 용해(PACHM), 전자빔 용해(EBCHM) 등의 최첨단 진공용해 설비를 자체 제작하여 운영하고 있습니다.
② 주요 제품
전 세계적으로 첨단소재 특수금속의 절반가량인 46.67%가 항공 부분에 사용되고, 20%가 화학제품 부분에, 14%가 자동차 산업, 10%가 전기/전자 부품산업에 각각 사용되고 있습니다.
이에 따라 에이치브이엠은 주요 제품으로 우주항공 구리합금 소재, 항공기 부품용 베타 열처리 타이타늄 합금, Ni 계 초내열합금, 고청정 인바합금, 스퍼터링 타겟 등을 생산하고 있습니다.
우주 합금 구리합금 소재는 Cu-Cr-Zr 합금으로 전기전도도의 손실 없이 나노 크기의 Cr 상을 석출시켜 상대적으로 높은 강도를 갖는 Cu 합금이고, 항공용 타이타늄 합금은 파괴인성 및 피로균열 전파에 대한 저항성을 갖춘 합금, 초내열합금은 Ni-Cr-Fe 기 합금 조성에 Nb, Mo, Al 및 Ti가 첨가된 합금으로써 각 합금원소에 의한 고용 및 시효 경화 효과를 극대화하여, 고온에서의 기계적 특성을 개선한 합금, 고청정 인바합금은 LCD 및 OLED 화면과 같은 평판 디스플레이 제조에 사용되는 정밀 부품인 파인 메탈 마스크(FMM) 생산에 사용되는 합금, 스퍼터링 타겟은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)방법 중 하나인 스퍼터링이라는 박막 증착 기술에 사용되는 재료로, 반도체와 태양전지의 제조에 활용되는 것에 각각 해당합니다.
[출처=에이치브이엠 IR자료]
③ 주요 고객사
우주·항공 분야
우주·항공 시장에서 에이치브이엠은 항우연과의 다년간의 공동연구 개발로 나로호/누리호 발사체에 사용된 특수 Stainless steel 및 Cu 계 첨단 금속을 성공리에 납품하였으며, 향후 두 가지 첨단 금속 이외에도 다양한 Stainless steel 수주를 확보하여 추가 발사체에 활용 예정입니다. 그리고 에이치브이엠은 한화에어로스페이스와 터빈엔진 소재 중 하나인 Alloy 718 공동연구 개발 과제(국책과제)의 협약을 완료하였으며, 이를 통해 국내 우주·항공 산업의 선두 주자인 한화에어로스페이스와의 지속적인 상호 발전 관계를 유지 중입니다.
또한 한국항공우주산업(KAI)와의 공동 연구를 통하여 국내 최초 5인치 이상의 Ti 계 (TI6AI-4V) 첨단소재 개발을 완료하였으며, KAI에 Ti 계 첨단소재 납품을 진행 중에 있습니다. 이뿐만 아니라 항공용 Fe 계 (PH13-8Mo) 첨단 소재 국산화 기술 개발도 제안을 받은 상태입니다. 특히, 최근에는 미국의 스페이스X, 이스라엘의 SCOPE에도 첨단 금속을 공급하기 시작했습니다.
반도체 분야
PVD 스퍼터링 타겟은 2020년 약 3,100백만 달러(4.03조 원)의 시장 규모가 형성되어 2026년 약 6,000백만 달러(7.8조 원)로 성장할 것으로 전망되며, 연평균 성장률(CAGR)은 9.89%로 예상됩니다. 에이치브이엠은 고청정 진공용해 기술을 기반으로 한 국내 유일 스퍼터링 타겟(Ni 계, Cu 계) 제조 기업입니다. 박막증착 원소재 국산화율을 각 증착공정별로 비교하였을 때, ALD 70%, ALD 40%, PVD 2%로 PVD 증착공정에 사용되는 스퍼터링 타겟이 국산화율이 가장 낮아 국산화에 대한 시장 수요가 높습니다. 스퍼터링 타겟으로 사용되는 소재는 현재 Al, Cu, Ti, 이 주를 이루고 있는 반면에 향후에는 Ta(탄탈륨) 스퍼터링 타겟 시장이 높은 비중을 차지할 것으로 기대됩니다. Ta 스퍼터링 타겟은 에이치브이엠의 주요 미래 기술 제품으로, 역시 반도체 산업의 PVD 공정에서 활용됩니다. Ta의 원소재 가격은 약 50만 원/kg (Fe 약 1천 원/kg)으로 원소재의 높은 가격만큼 고부가가치를 지닌 제품입니다.
디스플레이 분야
디스플레이 제조에서 Fine Metal Mask(FMM)은 고해상도 구현을 위한 핵심 부품으로, 유기물 증착 공정에서 정밀한 픽셀 형성을 가능하게 합니다.
FMM은 현재 일본의 Hitachi사와 DNP사가 독점하고 있는 분야로, Hitachi사의 고청정 인바 합금 용해기술을 통해 제조한 인바 합금을 DNP사가 높은 수준의 압연 기술을 통해 수십 ㎛ 두께의 박판으로 제조하고 있습니다. OLED 디스플레이 시장이 성장함에 따라 FMM 시장은 점점 더 커져 가고 있습니다.
또한, 기술이 발전함에 따라 OLED에 요구되는 해상도는 점점 높아져가고 있으며, 이에 따라 FMM의 품질(고청정, 얇은 두께, 평탄도 등)에도 더 높은 성능에 대한 필요가 발생하고 있습니다. 특히 VR 기기와 같은 디스플레이에는 3000 ppi 이상의 초고해상도 디스플레이가 요구되므로 이를 위한 FMM에도 점점 더 높은 수준의 제조 기술력이 요구되고 있습니다.
에이치브이엠은 관련 국책과제를 기반으로 하여 FMM의 연구개발을 진행해 오고 있습니다. 에이치브이엠이 보유하고 있는 고청정 용해 기술은 타기업보다 FMM용 인바합금 소재를 제조하기에 적합한 상황이며, 이러한 기술을 기반으로 현재는 20㎛ 두께의 FMM용 인바합금 박판 시제품을 제조하였습니다.
(2) 첨단금속 시장의 특징
[출처=에이치브이엠 IR자료]
첨단 금속 시대의 도래는 현재 우리가 사는 세상에서 가장 큰 변화 중 하나로 ICT 기술과 융복합 된 새로운 기술의 발전으로 인해 종래에 없던 새로운 성능 및 용도의 첨단 금속 소재가 필요해지고 있습니다.
세계 각국은 자국 산업의 강점 및 환경적 특징에 따라 자국 중심의 첨단 제조업 육성을 추진 중입니다. 미국은 자국 중심의 첨단 산업 육성을 위한 과감한 '규제 완화 제도를 마련하고 있으며 국가 간 적극적인 교류를 통한 시너지 효과 창출을 위해 노력하고 있습니다. 그러나 이러한 기술 육성 산업에 가장 중요한 것은 결국 첨단부품 소재 개발입니다. 이는 다양한 산업 분야에서 사용되는 최첨단 고부가가치인 첨단 금속의 중요성이 계속해서 높아지면서 생겨난 현상으로 첨단금속 소재의 개발과 상용화는 앞으로의 산업혁명에서 선두를 달리는 핵심 기술 중 하나가 될 것입니다. 첨단 금속은 높은 강도와 경도, 내식성, 내열성, 전기 전도도 등의 물리적, 화학적, 전기적 특성을 가지고 있습니다. 한정된 에너지 자원의 효율적 이용, 환경오염 저감에 대한 사회적 요구 증가로 인한 연비 향상, 가혹한 환경에서의 사용 등 다양한 산업적인 요구에 따라 첨단 금속의 중요성은 더욱 커지고 있습니다.
Azoth Analytics 자료에 따르면 세계 첨단소재 특수금속 시장은 2021년 8.87조 원에서 2028년 16.31조 원으로 약 2배가량 증가할 것으로 보고 있습니다. 각 합금별로 구분하면 타이타늄계 합금의 경우 1.8조 원에서 4.3조 원으로 약 2.5배가량 증가하고, 니켈계 합금의 경우 4.4조 원에서 8.8조 원으로 약 2배가량 증가하는 한편, 크롬계 합금의 경우 0.9조 원에서 1.1조 원, 기타 합금의 경우 1.2조 원으로 시장 규모가 확대될 것으로 전망됩니다.
(3) 에이치브이엠 연구개발 조직
① 개요
에이치브이엠은 합금 제조 과정에서 발생하는 다양한 문제를 해결하고, 합금 소재의 성능과 품질 최적화를 목표로 연구개발에 대한 투자와 기술력 강화에 주력하고 있습니다. 진공 용해 기술을 비롯한 다양한 공정 기술(단조, 압연 등)을 적극적으로 적용하여 합금 제조의 효율성과 품질 안정성을 높여 왔습니다. 이를 통해 불순물 제거 및 합금 원소 제어 기술 등을 개발하여 고청정 합금 제조에 성공하였습니다. 또한, 합금 소재의 특성 제어 기술 등을 발전시켜 고객이 원하는 수준의 소재 특성 향상 및 품질 향상을 위한 연구개발 활동에 노력을 기울이고 있습니다. 이러한 연구개발 결과는 전 세계 첨단 금속 시장에서 에이치브이엠의 경쟁력을 높이는 데 큰 역할을 하고 있습니다. 에이치브이엠의 기술 경영진은 문승호 대표이사(CEO), 최재영 부사장(CTO)으로 구성되어 있습니다. 문승호 대표이사는 금속공학을 전공한 박사 출신 과학자로 서울대학교 박사와 서울대학교 신소재 공동연구소, 키스타(주) 연구소장에 재직하면서 20여 년간 금속 소재의 용해 공정과 소재 특성을 연구하면서 금속 분야의 전문성을 확보하였습니다.
최재영 CTO는 서울대학교 학사·석사·박사학위 소지자이며, 동 업종인 포스코에서 5년 근무한 특급 재료공학 기술자로 전기강판, 후판, 특수합금의 개발연구를 진행하였습니다. 현재 에이치브이엠에서 고청정 용해 공정 및 소재 특성 분석 솔루션의 연구개발을 총괄하고 있습니다. 에이치브이엠은 기술 경영 관리 수준을 높이기 위해 최재영 CTO의 기술 개발 운영 아래 핵심 사업 분야에서 풍부한 역량을 보유한 기술 개발 전문가들이 연구개발 및 사업을 이끌고 있으며, 사업 기획 분야에서 전문성을 가진 주요 경영진이 관리 및 경영 업무 분야를 지원하면서 시너지를 창출하고 있습니다.
또한 문승호 CEO는 대한금속재료학회의 산업 분야 평의원이며 국내외 석학들과 학술교류와 네트워킹을 통하여 최신 특수 금속 및 첨단 금속 정보에 대한 접근이 용이하고 관련 분야의 우수 기업 및 연구자들과 협력 관계를 구축하는 데에 있어 매우 유리합니다. 한국재료연구원과는 패밀리 기업으로 지속적인 연구개발과제 및 교류를 통해 에이치브이엠의 사업의 기술적 성장 전략적인 측면에서 큰 도움을 받고 있습니다. 뿐만 아니라 한국과학기술연구원과 생산기술연구소, 서울대학교, 부산대학교 등 산학연 협력을 통해 공동으로 진행되는 프로젝트에 참여하여 에이치브이엠의 연구원들과 전문 기술 및 지식을 습득하고, 함께 연구를 수행하며 다양한 전문가들로부터 실무 경험과 업계의 최신 기술 동향 및 연구 결과를 빠르게 적용할 수 있으며, 기술 혁신 및 제품 개선에 대한 높은 역량을 확보해 오고 있습니다. 이렇듯 문승호 CEO를 비롯한 핵심 기술 경영진들이 금속재료 분야에서 오랜 기간 동안 현장에서 근무한 경험을 바탕으로 첨단 금속 개발을 위한 단계별 전략을 구체적으로 수립하여 진행 중이며, 기술사업화와 관련된 각종 규제를 파악하고 목표시장과 수요 예측 분석 능력을 갖추고 있습니다.
해당 기술분야에서 오랜 경험을 쌓아온 CEO 및 CTO의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발 및 효율적인 문제 해결에 도움이 됨은 물론 학술 교류와 네트워킹 등 다방면에서 기술 경쟁력을 확보하는데 큰 도움이 됨을 알 수 있습니다. 또한 이와 같은 인력 구성은 에이치브이엠이 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다.
② 연구개발 조직
에이치브이엠의 기술 인력은 설립 초기 고청정 용해 첨단 공정 기술 개발과 소재 특성 분석 기술 개발에 참여한 석·박사급 인력들이며 이후 계속해서 금속 재료 분야 전문성을 가진 석·박사 신규 기술 인력을 영입하고 있습니다. 2023년 8월 기준 연구 및 기술 개발 분야에 총 22명이 근무 중이며, 이 중에서 석사 12명, 박사 4명, 학사 5명 (전 연구원 금속재료 전공)으로 첨단 금속 제조 공정 및 금속 분석 기술 개발과 관련된 인력은 21명, 특허 및 기술동향 Database화 인원은 1명이 있고, 5명 이상의 기술연구원 추가 인원을 채용할 예정에 있습니다.
학력 | 박사 | 석사 | 학사 | 전문학사 | 합계 |
인원수 | 4 | 9 | 2 | 1 | 16 |
(단위:명)
연구소는 단순히 인원수만 많은 것이 아니라, 해당 기술 분야의 석,박사들을 비롯하여 오랜 경험을 쌓은 전문가들을 중심으로 운영되고 있으며, 꾸준히 기술 연구원을 추가적으로 채용할 예정에 있습니다. 이는 에이치브이엠이 연구개발의 질적 수준을 높이는 데에 심혈을 기울이고 있음을 나타냅니다. 경험 많은 전문가들의 지식과 노하우는 혁신적인 기술 개발과 효율적인 문제 해결에 큰 도움이 됩니다. 또한 이러한 인력 구성은 에이치브이엠이 단기적인 이익보다는 장기적인 기술 경쟁력 확보에 초점을 맞추고 있음을 시사합니다. 연구개발에 대한 과감한 투자는 회사의 미래 성장 동력을 확보하고, 시장에서의 선도적 위치를 유지하려는 비전과 전략을 반영합니다.
③ 연구개발 인력 확보 및 유지 방안
에이치브이엠은 사세 확장과 더불어 연구개발 프로젝트 증가로 인해 기술인력을 지속적으로 충원하고 있으며, 고급 기술인력을 영입하기 위하여 상시 인재 채용과 병역특례제도인 전문연구요원 제도 등 다양한 채용방법을 통하여 석,박사급 인력을 충원하고 있습니다.
에이치브이엠은 연구자들의 연구성과 창출을 독려하기 위하여 매년 정기적으로 각 연구자들의 연구개발 성과를 평가하여 연구수당(인센티브)을 지급하고 있고 이와 별개로 직무발명보상제도를 운용하여 특허 출원/등록 시 해당 특허의 중요도를 평가하여 발명자에게 보상금을 지급하고 있습니다. 또한 기술이전과 상품개발에 기반한 사업 성과를 반영하여 연구자에게 인센티브를 지급하고 있습니다.
또한 임직원의 주인의식 함양과 높은 경영 성과를 창출한 임직원에 대한 보상, 임직원의 동기부여를 통한 성과 창출 및 경쟁력 제고, 우수 인력의 확보 및 유지를 위하여 주식매수선택권(스톡옵션)을 부여하고 있고 상장 시기에 맞춰 우리 사주 제도를 도입하여 임직원들이 주인의식을 갖고 능동적으로 일할 수 있는 환경을 구축할 계획을 가지고 있습니다.
뿐만 아니라 에이치브이엠은 기술인력의 동기부여와 만족도 및 통합 관리를 위하여 성과 평가 및 관리 시스템을 구축하여 운영하고 있습니다. 기술인력의 성과측정 및 관리에 있어 연초의 성과계획과 연말의 성과측정 및 성과 보고의 통합적인 운영과 평가대상의 성과계획에 대한 부서장에 의한 사전 검토 등 평가대상에 의한 자체 평가 방식을 동시에 운영하고 있습니다. 각 부서에 부여된 임무에 기초하여 목표 체계를 설정하고 있으며, 이들 목표는 최종적인 상태에 대한 것과 이를 구현하기 위한 중간 단계로서의 목표 등으로 체계화되어 운영하고, 성과측정 및 관리를 위하여, 사전적인 측면에서의 성과계획과 사후적인 측면에서의 성과측정으로 구성되고 있으며, 성과계획은 기관의 임무, 활동의 좌표가 되는 목표 체계, 목표의 성취를 위한 세부적인 활동 계획, 그리고 성과평가를 위한 성과지표 등으로 구성되어 있습니다. 성과계획서의 수립 과정에서 목표 체계, 성과 지표 등에 대한 검토 등을 통해 성과측정 및 관리가 효과적으로 이루어질 수 있도록 관리 및 지원하고 있으며, 성과측정 및 평가를 통해 합리적인 성과보상을 지급하여 기술인력들의 만족도를 높일 수 있도록 관리하고 있습니다.
그리고, 에이치브이엠은 직무발명보상제도를 통해 특허 출원/등록 시 해당 특허의 중요도를 평가하여 발명자에게 보상금을 지급하고 있습니다. 직무발명의 실시, 기술이전의 대가로 인하여 회사에 수익이 발생한 경우에는 당해 수익에서 외부 기관과의 공동 소유 지분 및 회사가 출원 또는 권리 유지 등을 위하여 지출한 비용 등을 공제한 금액(순수익)을 기준으로 하여 발명자에게 보상금으로 지급하고 있습니다.
핵심 인력의 이탈은 연구개발의 지연 등 회사의 사업에 부정적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 지속적으로 인력 관리 전략의 개선이 필요합니다. 또한, 핵심 기술과 노하우의 분산 관리, 지식 관리 시스템 구축 등을 통해 개인 의존도를 낮추는 노력도 병행이 되어야 합니다. 이러한 종합적인 접근은 연구개발 인력의 안정적인 확보와 유지에 기여할 수 있으며, 이는 회사의 지속적인 혁신과 성장의 핵심 동력이 될 것입니다.
2. 연구개발 비용
구분 | 2024년 1분기 | 2023년 | 2022년 | 2021년 | 비고 |
연구개발비용 계 | 812549 | 7233993 | 7132506 | 6281786 | |
정부보조금 | 546884 | 5761125 | 5595255 | 5149000 | |
연구개발비/매출액 비율 [연구개발비용계/당기매출액 X 100] | 10% | 17% | 20% | 21% |
(단위: 천원)
과학기술정보통신부와 한국과학기술기획평가원(KISTEP)의 연례 연구개발활동 조사에 따르면 한국의 기업 부문 매출액 대비 연구개발비 비중은 3.64%에 달합니다. 에이치브이엠은 10-20% 정도의 연구개발비를 지출하고 있어 연구개발의 질적 수준을 높이는 것에 집중하고 기술력을 발전시키는 것을 회사의 중점적인 전략으로 여기고 있음을 알 수 있습니다.
3. 연구개발 주요 성과
(1) 연구개발실적
① 외부 과제
외부 과제(정부과제)는 산업부 과제(17건), 중소벤처기업부 과제(4건), 방위사업청 과제(1건)에 대해 연구개발 중이거나 기술 개발 완료하였습니다.
개발 완료 외부 과제
(단위: 백만원)
번호 | 연구과제명 | 주관부서 | 연구기간 | 정부 출연금 | 관련제품 | 비고 |
1 | Cold Hearth 기반 저비용 고청정 Ti합금 슬래브제조 및 가공기술 개발 | 산업통상자원부 | 2014.10.01~ 2020.04.31 | 4307 | 타이타늄 합금 중간재 | 완료 |
2 | 융점 2,000℃ 이하 원소로 구성된 강도 1,400MPa, 연신율12%이상 타이타늄신소재 및 수송기기,국방 산업용 응용기술 개발 | 산업통상자원부 | 2016.03.01~ 2020.12.31 | 960 | 타이타늄 신합금 중간재 | 완료 |
3 | 초미세립 고강도 티타늄 광폭 박판재 및 응용부품 제조기술 개발 | 산업통상자원부 | 2016.06.22~ 2021.07.30 | 370 | 방산무기 부품소재 | 완료 |
4 | 니켈 합금 6종에 대한 상용표준물질 개발 및 보급 | 산업통상자원부 | 2020.02.01 ~2021.12.31 | 190 | 표준물질 CRM 소재 | 완료 |
5 | 수소충전 인프라 확충을 위한 수소충전소 고압수소 배관용인장강도 800MPa급 9/16" 스테인리스 심리스 배관 제조 기술 개발 | 산업통상자원부 | 2020.05.01~ 2022.12.31 | 980 | 수소충전소 고압수소배관소재 | 완료 |
6 | IT 산업용 초탄성 타이타늄 합금 박판 및 고강도 순수 타이타늄 판재 scale-up 기술 개발 | 중소벤처기업부 | 2020.08.01~ 2022.07.31 | 700 | 플렉서블 타이타늄 합금 | 완료 |
진행 중인 외부과제
(단위: 백만원)
번호 | 연구과제명 | 주관부서 | 연구기간 | 정부출연금 | 관련제품 | 비고 |
1 | 적층성형용 저비용 Ti 합금 솔리드 필러 및 이를 활용한 1000mm급 발전용 최후단 블레이드 제조기술 개발 | 산업통상자원부 | 2019.04.01~ 2024.06.30 | 1772 | 터빈블레이드 부품 소재 | 진행중 |
2 | TIT 1650 급 가스터빈 정밀주조용 단결정 소재 기술 개발 | 산업통상자원부 | 2020.04.01~ 2024.12.31 | 3151 | 고온용 터빈블레이드 부품 소재 | 진행중 |
3 | 저압터빈 블레이드 10% 경량화를 위한 경량철강 및 블레이드 제조 기술 개발 | 산업통상자원부 | 2020.04.01~ 2024.12.31 | 1318 | 경량 터빈블레이드 부품 소재 | 진행중 |
… | … | … | … | … | … | … |
13 | 탄화수소직접가열분해로개발 | 산업통상자원부 | 2023.07.01~ 2028.12.31 | 1650 | 탄화수소직접가열분해로 튜브소재 | 진행중 |
14 | 전자기기 및 전자파 차폐 소재(Cu-Ti,Cu-Fe계)제조 및 열간압연 생산기술개발 | 중소벤처기업부 | 2021.06.01~ 2025.05.31 | 1600 | 전자파 차폐 부품 소재 | 진행중 |
15 | 발전용 가스터빈 블레이드 유지보수를 위한 3D 프린트용 Ni 합금계 Powder / Wire 개발 및 조형체평가 | 중소벤처기업부 | 2022.05.01~ 2024.04.30 | 325 | 터빈블레이드 수리용 분말 소재 | 진행중 |
개발 완료 내부 과제
번호 | 연구과제명 | 연구기관 (수요기관) | 연구결과 및 기대효과 | 연구결과 상품화 | 상품화 내용 |
1 | 초고순도 Cu-P 스퍼터링 타겟 개발 | 프렉스에어 | -초고순도 Cu-P 제조기술 개발 -국내 최초 스퍼터링 타겟 소재 국산화 및 상용화 | O | 반도체용 스퍼터링 타겟 |
2 | 디스플레이용 동파이프 타겟 개발 | 삼성전자 | -초고순도 동파이프 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화 기대 | X (공급사 독점계약으로 인한 제품납품 불가) | 디스플레이용 스퍼터링 타겟 |
3 | 듀플렉스 스테인레스 강 소재 국산화 개발 | 대우조선해양 | -듀플렉스 스테인레스강 소재개발 -잠수함용 부품소재 국산화 | O | 극저온용 잠수함 소재 |
4 | 고속열차용 프리마운팅 단조 제동 디스크 개발 | 한국철도기술연구원 | -Micro Alloyed Steel 제조 및 단조/열처리 기술 개발 -해외 프랑스사에서 전량 구입하던 KTX Brake Disk 소재 국산화 | O (인증 진행 중) | KTX Brake Disc |
5 | 스퍼터링 타겟용 고순도 Cu 제품 개발 | 삼성전자 | -초고순도 반도체용 Cu 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화 기대 | X | 반도체용 스퍼터링 타겟 |
6 | 초고순도 스퍼터링 타겟용 C18000 합금의 표면 결함 제어 기술 개발 | 프렉스에어 | -초고순도 Cu합금 제조기술개발 -스퍼터링 타겟 소재 국산화 | O | 반도체용 스퍼터링 타겟 |
7 | 우주 발사체용 C18150 합금의 주요 합금 원소 및 기계적 물성 제어 기술 개발 | 해외업체 | -극미량원소 첨가된 우주발사체용 합금소재 제조기술개발 -우주발사체용 소재제조기술 확보 및 국내 항공우주산업 기술 발전 기여 | O | 우주발사체 부품 소재 |
8 | 고강도/에코 Alloy K500 열간 공정 기술 개발 | 해외업체 | -우주발사체용 소재제조기술 확보 및 국내 항공우주산업 기술 발전 기여 | O | 우주발사체 부품 소재 |
진행 중인 내부과제
번호 | 연구과제명 | 연구기관 (수요기관) | 연구결과 및 기대효과 | 연구결과 상품화 | 상품화 내용 |
1 | 중소형 OLED OMM용 인바합금 제조기술 개발 | 핌스 | - OMM용 인바합금 광폭판재 제작기술 - 국내 최초 OMM용 소재 국산화 기대 | 진행중 | OMM용0.1mm 인바합금광폭판재 |
2 | Beta annealed 타이타늄 합금 소재 국산화 개발 | KAI | - Beta 타이타늄 합금 제조 기술 개발 - 국내 최조 베타타이타늄 합금 생산 및 품질 인증완료 - 상용화를 통한 국내 항공기 부품 산업발전에 기여 | O | 전투기KF21 부품소재 |
향후 연구개발 계획
(단위: 백만원)
번호 | PROJECT 명 | 연구기간 | 경상 연구개발비 예상 금액 | 생산제품 | 최종제품 | 수요업체 | 과제 재원 조달방법 |
1 | DSA 760 소재 국산화 | 2024.04 ~ 2026.12 | 1500 | [중간재 부품] ø120 X 1200 | 선박엔진 밸브 | HD현대 | 정부과제 |
2 | XR용 극청정 인바합금소재 개발 | 2024.04 ~ 2027.12 | 3200 | [소재 부품] 20㎛, 10um INVAR 박판 | VR 기기용OLED | APS Materials | 내부과제 |
3 | KF21 군용기용 13-8Mo 합금소재 개발 | 2023.11 ~ 2024.07 | 480 | [중간재 부품] 1200 X 1200 X 200T | KF21 항공기부품 | KAI | 내부과제 |
4 | 한울 1,2호기 수리용원자력 배관 소재 개발 | 2024.01 ~ 2024.12 | 420 | [중간재 부품] ø120 X 1200 | 원자력Seamless Pipe | 한국수력원자력 | 내부과제 |
5 | 우주발사체용 고청정 Nb 합금 개발 | 2024.04 ~ 2027.12 | 4000 | [중간재 부품] ø100 X 3000 | 우주발사체부품 | 해외X 사 | 정부과제 |
(2) 지식재산권 보유 내역
에이치브이엠은 원소재 구입부터 용해-단조-압연-열처리-가공-검사-출하 등 제조 기반의 전 단계에 걸쳐각각에 대한 자체 개발된 요소기술을 보유하고 있습니다. 에이치브이엠의 기술연구소에서는 첨단금속 제조 기술들의 중요기술을 특허화하여, 총 15건의 특허를 확보하였습니다.
국내 특허 기술 목록
번호 | 내용 | 권리자 | 출원일자 | 등록일 | 적용제품 | 출원국 |
1 | 타이타늄 전극용 브리켓 제조장치 및 방법 | (주)에이치브이엠 | 2014-07-16 | 2016-09-29 | 타이타늄 합금 중간재 | 대한민국 |
2 | Ni기 합금 잉곳 제조 장치 | (주)에이치브이엠 | 2020-12-30 | 2023-07-26 | 니켈합금 중간재 | 대한민국 |
3 | 타이타늄 판재의 뒤틀림 방지 냉각장치 | 한국재료연구원 (주)에이치브이엠 | 2020-12-31 | 2022-12-15 | 타이타늄 합금 중간재 | 대한민국 |
4 | 금속 용해물의 인발 장치 | (주)에이치브이엠 | 2021-01-13 | 2022-09-30 | 잉곳 | 대한민국 |
5 | 타이타늄 판재의 뒤틀림 방지 설비 | (주)에이치브이엠 | 2021-03-31 | 2023-10-30 | 타이타늄 판재 | 대한민국 |
6 | 고강도 및 고연성을 갖는 크롬-몰리브덴 강 및 이의 제조 방법 | (주)에이치브이엠 | 2022-02-21 | 2022-10-12 | 고강도 철강 | 대한민국 |
7 | 하이브리드 용해를 통한 고청정 철-니켈 합금의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈 합금 | (주)에이치브이엠 | 2022-02-21 | 2023-04-28 | FMM용 고청정 인바합금 | 대한민국 |
8 | 플라즈마 용해로(통전방지) | (주)에이치브이엠 | 2022-05-25 | 2022-12-26 | 고순도 금속 | 대한민국 |
9 | 잉곳 제조용 가변 몰드 | (주)에이치브이엠 | 2022-05-25 | 2023-02-06 | 잉곳 | 대한민국 |
10 | 티탄 구리 합금 및 이를 제조하는 방법 | (주)에이치브이엠 | 2022-09-19 | 진행중 | 전자소재용 구리합금 | 대한민국 |
11 | 플라즈마 토치 | (주)에이치브이엠 | 2022-11-17 | 2023-10-23 | 고순도 금속 | 대한민국 |
12 | 고순도의 은 스퍼터링 타겟 제조 방법 및 이에 의해 제조된 은 스퍼터링 타겟 | (주)에이치브이엠 | 2022-12-01 | 2023-01-05 | 스퍼터링 타겟 | 대한민국 |
13 | 잉곳 냉각 장치 | (주)에이치브이엠 | 2023-02-22 | 2024-03-15 | 잉곳 | 대한민국 |
14 | 파인 메탈 마스크용 고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및이에 의해 제조된 철-니켈 합금 | (주)에이치브이엠 | 2023-04-26 | 2024-04-04 | FMM용 고청정 인바합금 | 대한민국 |
15 | 고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈합금 | (주)에이치브이엠 | 2023-06-05 | 2023-10-23 | FMM용 고청정 인바합금 | 대한민국 |
16 | 진공 아크 재용해시 용해 및 정련 방법 | (주)에이치브이엠 | 2023-07-13 | 2024-02-15 | 고순도 합금 | 대한민국 |
17 | 고체산화물 연료전지용 스테인레스강 및 이의 제조방법 | (주)에이치브이엠 | 2023-07-26 | 진행중 | SOFC용 분리막 | 대한민국 |
18 | 고압 수소 배관용 고질소 스테인리스강의 제조 방법 | (주)에이치브이엠 | 2023-11-21 | 진행중 | 고질소 스테인리스강 | 대한민국 |
19 | 고강도 및 고연성을 갖는 크롬-몰리브덴 강 및 이의 제조 방법 | (주)에이치브이엠 | 2023-12-28 | 진행중 | 고강도 철강 | 대한민국 |
해외특허기술 목록
번호 | 내용 | 권리자 | 출원일자 | 등록일 | 적용제품 | 출원국 |
1 | 플라즈마 토치 | (주)에이치브이엠 | 2023-07-26 | - | 고순도 금속 | PCT |
2 | 파인 메탈 마스크용 고청정 철-니켈 합금의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 철-니켈 합금 | (주)에이치브이엠 | 2023-07-26 | - | FMM용 고청정 인바합금 | PCT |
3 | 고청정 철-니켈 합금의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고청정 철-니켈합금 | (주)에이치브이엠 | 2023-07-26 | - | FMM용 고청정 인바합금 | PCT |
특허권은 연구개발 활동의 중요한 결과물이자 성과 지표로 간주됩니다. 특허 출원 및 등록 건수는 연구개발의 기술적 성과를 측정하는 핵심 지표 중 하나입니다. 여러 연구 결과에 따르면 기업의 특허성과는 연구개발 및 기술혁신과 양의 관계를 가지고, 기업 성과는 특허성과 및 연구개발 강도와 양의 관계를 가지는 것으로 확인되었습니다. 즉, 높은 특허 강도와 연구개발 강도를 보이는 기업일수록 높은 기업 성과를 향유하고 있음을 알 수 있습니다. (한국기술혁신학회, 기술혁신학회지 9권 1호, 박선영 등)
에이치브이엠도 연구개발의 성과를 특허권으로 입증하는 한편 자체 개발한 기술을 특허로 두텁게 보호하고 있는 것을 볼 수 있습니다.
[출처=에이치브이엠 IR자료]
4. 소결
기술특례상장 제도는 혁신적인 기술력을 가진 기업들에게 자본 시장 진입의 기회를 제공하는 중요한 메커니즘입니다. 이 제도를 통해 우리는 연구개발 능력이 기업의 성공과 지속 가능한 성장에 얼마나 핵심적인 요소인지 명확히 볼 수 있었습니다.
연구개발에 지속적으로 투자하고 혁신을 추구하는 기업들은 시장에서 더 높은 평가를 받고 있으며, 이는 투자자들이 기술력과 미래 성장 잠재력을 중요하게 여긴다는 점을 시사합니다. 따라서 기술특례상장을 준비하는 기업들은 단순히 재무적 성과에만 집중하는 것이 아니라, 지속적인 연구개발 투자와 혁신 역량 강화에 주력해야 합니다.
에이치브이엠은 항공 소재, 연료전지용 분리판, 수소 에너지 분야, 고청정 합금, 발전 소재, 전자 소재 등의 분야에서 핵심적인 기술들을 보유하고 이를 특허로 보호하여 기술적 진입 장벽을 구축하고 있습니다. 이를 통해서 에이치브이엠은 스페이스X를 비롯한 국내외의 주요 기업들과의 협력 관계를 맺고 지속적으로 우주 분야 등 신규 시장에 진출하고 매출을 상승시키는 한편 성장 잠재력과 기술력을 인정받아 기술특례상장에 성공할 수 있었습니다. 이렇듯 혁신적인 기술 개발과 특허 등록은 회사의 성장과 주식시장 상장에 긍정적인 영향을 줄 수 있으며, 향후에도 시장에서의 경쟁력을 유지하는 데 중요한 역할을 할 수 있는 것을 확인할 수 있습니다.